特許

J-GLOBAL ID：201303055791615647

蒸着用マスク、蒸着用マスクの製造方法、電子素子および電子素子の製造方法

発明者： 平井 暢一
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (4件)： 藤島 洋一郎 ,  三反崎 泰司 ,  長谷部 政男 ,  田名網 孝昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-153872
公開番号（公開出願番号）：特開2013-021165
出願日： 2011年07月12日
公開日（公表日）： 2013年01月31日
要約：

【課題】被蒸着膜を高精細なパターンで形成することが可能な蒸着用マスクを提供する。【解決手段】蒸着用マスクは、1または複数の第1開口部を有する基板と、この基板の第1主面側に設けられると共に、各第1開口部と対向して1または複数の第2開口部を有する高分子膜とを備える。蒸着の際には、蒸着材料が第1開口部および第2開口部を順に通過することにより、第2開口部に対応した所定のパターンで被蒸着膜が形成される。基板と高分子膜とを組み合わせて用いることにより、機械的強度を保持しつつも、金属膜のみで構成されている場合に比べ、第2開口部において微細かつ高精度な開口形状を実現できる。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

1または複数の第1開口部を有する基板と、 前記基板の第1主面側に設けられると共に、各第1開口部と連通する1または複数の第2開口部を有する高分子膜と を備えた蒸着用マスク。

IPC (5件)：

H01L 21/285 ,  C23C 14/04 ,  H01L 29/786 ,  H01L 21/336 ,  H01L 51/05

FI (5件)：

H01L21/285 P ,  C23C14/04 A ,  H01L29/78 618B ,  H01L29/78 616K ,  H01L29/28 100A

Fターム (45件)：

4K029BD02 ,  4K029HA02 ,  4K029HA03 ,  4M104AA09 ,  4M104AA10 ,  4M104BB02 ,  4M104BB04 ,  4M104BB05 ,  4M104BB06 ,  4M104BB07 ,  4M104BB08 ,  4M104BB09 ,  4M104BB13 ,  4M104BB14 ,  4M104BB16 ,  4M104BB17 ,  4M104BB18 ,  4M104BB36 ,  4M104CC01 ,  4M104DD34 ,  4M104DD71 ,  4M104FF08 ,  4M104FF13 ,  4M104GG09 ,  4M104HH14 ,  4M104HH20 ,  5F110AA16 ,  5F110BB01 ,  5F110CC07 ,  5F110DD01 ,  5F110EE02 ,  5F110EE03 ,  5F110EE04 ,  5F110EE44 ,  5F110FF01 ,  5F110FF27 ,  5F110GG05 ,  5F110GG42 ,  5F110HK02 ,  5F110HK32 ,  5F110HM04 ,  5F110HM12 ,  5F110NN02 ,  5F110NN27 ,  5F110QQ01