特許
J-GLOBAL ID:201303056749791040
太陽電池製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
山本 秀策
, 安村 高明
, 大塩 竹志
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-121056
公開番号(公開出願番号):特開2013-247286
出願日: 2012年05月28日
公開日(公表日): 2013年12月09日
要約:
【課題】低コスト化を実現するとともに、性能の良い太陽電池を製造する方法を提供する。【解決手段】拡散不純物を含まない第1溶液をシリコン基板4の第1表面にスピンコートし、拡散不純物を含む第2溶液をシリコン基板の第1溶液がスピンコートされた第1表面にスピンコートし、シリコン基板4の第1表面にスピンコートされた第2溶液に含まれる拡散不純物を拡散させることにより、シリコン基板の第1表面に不純物拡散領域10を形成する。【選択図】図3
請求項(抜粋):
太陽電池の製造方法であって、
前記方法は、
拡散不純物を含まない第1溶液をシリコン基板の第1表面にスピンコートする工程と、
拡散不純物を含む第2溶液を前記シリコン基板の前記第1溶液がスピンコートされた前記第1表面にスピンコートする工程と、
前記シリコン基板の前記第1表面にスピンコートされた前記第2溶液に含まれる拡散不純物を拡散させることにより、前記シリコン基板の前記第1表面に不純物拡散領域を形成する工程と
を含む、太陽電池の製造方法。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (4件):
5F151AA02
, 5F151AA03
, 5F151CB20
, 5F151DA10
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