特許
J-GLOBAL ID：201303058040368040

基板洗浄装置及び洗浄方法

発明者：
藤方 淳平

藤方 淳平 について


出願人/特許権者：
株式会社荏原製作所

株式会社荏原製作所 について


代理人 (2件)： 渡邉 勇 ,  廣澤 哲也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-032534
公開番号（公開出願番号）：特開2013-211533
出願日： 2013年02月21日
公開日（公表日）： 2013年10月10日
要約：
【課題】表面外周部をシール部材でシールして基板ホルダで保持した基板であっても、純水等の洗浄水の使用量を増加させることなく、基板の外周部を含む全表面を均一に洗浄できるようにする。【解決手段】表面外周部をシール部材でシールして基板を保持した基板ホルダを内部に鉛直に配置する洗浄槽100と、洗浄槽100の内部の該洗浄槽100内に配置される基板ホルダ18と対向する位置に配置され、基板ホルダ100に向けて洗浄水を噴射する複数の洗浄ノズル102を有するノズルプレート104とを有し、複数の洗浄ノズル102は、基板の上半分の領域において、表面外周部のシール部材との接触部D1乃至その近傍に噴流が当たる位置に、該接触部D1と同心状に配置されている。【選択図】図7
請求項（抜粋）：
表面外周部をシール部材でシールして基板を保持した基板ホルダを内部に鉛直に配置する洗浄槽と、 前記洗浄槽の内部の該洗浄槽内に配置される前記基板ホルダと対向する位置に配置され、前記基板ホルダに向けて洗浄水を噴射する複数の洗浄ノズルとを有し、 前記複数の洗浄ノズルは、基板の上半分の領域において、表面外周部のシール部材との接触部乃至その近傍に噴流が当たる位置に、該接触部と同心状に配置されていることを特徴とする基板洗浄装置。
IPC (1件)：
H01L 21/304
FI (1件)：
H01L21/304 642F
Fターム (10件)：
5F157AA97 ,  5F157AB02 ,  5F157AB14 ,  5F157AB22 ,  5F157AB34 ,  5F157AC01 ,  5F157BB02 ,  5F157BB23 ,  5F157DB02 ,  5F157DB41
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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