特許
J-GLOBAL ID:201303058243156315
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
高松 猛
, 尾澤 俊之
, 長谷川 博道
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-207018
公開番号(公開出願番号):特開2013-068778
出願日: 2011年09月22日
公開日(公表日): 2013年04月18日
要約:
【課題】有機溶剤現像によるネガ型パターン形成において、現像後のパターン倒れ及びブリッジ欠陥の発生を抑え、残膜率も大きい感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び電子デバイスを提供する。【解決手段】下記一般式(I)で表される繰り返し単位(a)を有する樹脂(P)、 特定の一般式(B-1)〜(B-3)のいずれかで表される化合物(B)、及び溶剤を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 上記一般式(I)中、R0は、水素原子又はメチル基を表す。 R1、R2及びR3は、各々独立に、直鎖状又は分岐状のアルキル基を表す。【選択図】なし
請求項(抜粋):
下記一般式(I)で表される繰り返し単位(a)を有する樹脂(P)、
下記一般式(B-1)〜(B-3)のいずれかで表される化合物(B)、及び溶剤
を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
IPC (7件):
G03F 7/039
, G03F 7/004
, G03F 7/038
, G03F 7/32
, H01L 21/027
, C08F 20/18
, C08F 2/50
FI (9件):
G03F7/039 601
, G03F7/004 503A
, G03F7/004 501
, G03F7/038 601
, G03F7/32
, G03F7/32 501
, H01L21/30 502R
, C08F20/18
, C08F2/50
Fターム (111件):
2H096AA25
, 2H096BA06
, 2H096EA05
, 2H096GA03
, 2H096GA18
, 2H125AF16P
, 2H125AF17P
, 2H125AF19P
, 2H125AF20P
, 2H125AF21P
, 2H125AF22P
, 2H125AF33P
, 2H125AF38P
, 2H125AF39P
, 2H125AF45P
, 2H125AF70P
, 2H125AH11
, 2H125AH12
, 2H125AH15
, 2H125AH16
, 2H125AH17
, 2H125AH19
, 2H125AH22
, 2H125AH24
, 2H125AH25
, 2H125AH29
, 2H125AJ14X
, 2H125AJ16Y
, 2H125AJ63X
, 2H125AJ65X
, 2H125AJ66X
, 2H125AJ67X
, 2H125AJ68X
, 2H125AJ69X
, 2H125AJ87Y
, 2H125AJ88Y
, 2H125AJ92Y
, 2H125AL02
, 2H125AL03
, 2H125AL11
, 2H125AM12P
, 2H125AM23P
, 2H125AM26P
, 2H125AM30P
, 2H125AM66P
, 2H125AM86P
, 2H125AM99P
, 2H125AN08P
, 2H125AN38P
, 2H125AN39P
, 2H125AN42P
, 2H125AN45P
, 2H125AN51P
, 2H125AN54P
, 2H125AN56P
, 2H125AN57P
, 2H125AN62P
, 2H125AN63P
, 2H125AN65P
, 2H125AN86P
, 2H125AN88P
, 2H125BA01P
, 2H125BA02P
, 2H125BA26P
, 2H125BA32P
, 2H125BA33P
, 2H125CA12
, 2H125CB09
, 2H125CC01
, 2H125CC15
, 2H125CD08P
, 2H125CD37
, 2H125FA03
, 4J011AA05
, 4J011RA03
, 4J011SA74
, 4J011SA75
, 4J011SA77
, 4J011SA78
, 4J011SA83
, 4J011UA01
, 4J011UA04
, 4J011VA01
, 4J011VA10
, 4J011WA01
, 4J100AJ02R
, 4J100AL03Q
, 4J100AL03R
, 4J100AL08P
, 4J100AL08Q
, 4J100AL08R
, 4J100AL08S
, 4J100BA03Q
, 4J100BA03R
, 4J100BA08Q
, 4J100BA11P
, 4J100BA40P
, 4J100BC03R
, 4J100BC03S
, 4J100BC08Q
, 4J100BC09Q
, 4J100BC09R
, 4J100BC09S
, 4J100BC12R
, 4J100BC53P
, 4J100BC58P
, 4J100CA01
, 4J100CA03
, 4J100DA01
, 4J100DA04
, 4J100JA38
引用特許:
審査官引用 (1件)
-
感放射線性樹脂組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願2010-107156
出願人:JSR株式会社
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