特許

J-GLOBAL ID：201303058713980397

遮光層形成用感光性基材組成物の製造方法

発明者： 中緒 卓 ,  塩田 大 ,  石川 達郎
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (4件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  鈴木 三義 ,  五十嵐 光永
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-090370
公開番号（公開出願番号）：特開2013-242555
出願日： 2013年04月23日
公開日（公表日）： 2013年12月05日
要約：

【課題】ピンホール等が発生しない、高品質の遮光層形成用感光性基材組成物の提供。【解決手段】質量平均分子量が10000〜50000の重合体である界面活性剤成分(H)を2.5〜10質量%に希釈した後、ろ過し、ろ過後の該界面活性剤成分(H)と、感光性基材成分(A)と、顔料成分(G)と、有機溶剤成分(S)とを分散させることを特徴とする遮光層形成用感光性基材組成物の製造方法。前記ろ過は、孔径が1μm以下のPTFE膜にてろ過することが好ましい。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

質量平均分子量が10000〜50000の重合体である界面活性剤成分(H)を2.5〜10質量%に希釈した後、ろ過し、 ろ過後の該界面活性剤成分(H)と、感光性基材成分(A)と、顔料成分(G)と、有機溶剤成分(S)とを分散させることを特徴とする遮光層形成用感光性基材組成物の製造方法。

IPC (4件)：

G03F 7/26 ,  G03F 7/004 ,  G02F 1/133 ,  G02B 5/20

FI (5件)：

G03F7/26 ,  G03F7/004 504 ,  G03F7/004 505 ,  G02F1/1335 500 ,  G02B5/20 101

Fターム (44件)：

2H096AA28 ,  2H096BA05 ,  2H096BA06 ,  2H096EA02 ,  2H096GA08 ,  2H096LA30 ,  2H125AC36 ,  2H125AC54 ,  2H125AD02 ,  2H125AD06 ,  2H125AM23P ,  2H125AM26P ,  2H125AM27P ,  2H125AM66P ,  2H125AN34P ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AP03P ,  2H125BA02P ,  2H125BA16P ,  2H125BA32P ,  2H125CA18 ,  2H125CB05 ,  2H125CC01 ,  2H125CC13 ,  2H125CD08P ,  2H125CD40 ,  2H125EA02P ,  2H148BD11 ,  2H148BE36 ,  2H148BF12 ,  2H148BF16 ,  2H148BH02 ,  2H191FA02Y ,  2H191FA14Y ,  2H191FB02 ,  2H191FC10 ,  2H191FC16 ,  2H191FC32 ,  2H191FC33 ,  2H191FD04 ,  2H191GA13 ,  2H191LA13 ,  2H191LA24