特許

J-GLOBAL ID：201303062665818865

微細気泡発生装置、微細気泡発生方法、基板処理装置、および基板処理方法

発明者： 廣瀬 治道 ,  牧野 勉 ,  坂下 健司
出願人/特許権者： 芝浦メカトロニクス株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-040098
公開番号（公開出願番号）：特開2013-173118
出願日： 2012年02月27日
公開日（公表日）： 2013年09月05日
要約：

【課題】従来の旋回式をはじめとする微細気泡発生の方法よりも、より細かくより多量の、洗浄等の処理に適する微細気泡を発生させる。【解決手段】円筒状の上面が開口したケーシング6aと、前記ケーシング6a上面を蓋するように形成され、複数の吐出孔61を有する多孔板62と、前記ケーシング6aと前記多孔板62によって形成された液受部64と、前記液受部64に液体に気体が溶存した気体溶存液を供給する気体溶存液供給配管7と、前記気体溶存液供給配管7に上下摺動可能に設けられ、前記多孔板62に対向して前記吐出孔61を覆うように備えられたカバー63とを有することを特徴とする。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

上面が開口したケーシングと、 前記ケーシングと前記ケーシング上面を蓋するように形成され、複数の吐出孔を有する多孔板と、 前記ケーシングと前記多孔板によって形成された液受部と、 前記液受部に液体に気体が溶存した気体溶存液を供給する気体溶存液供給配管と、 前記多孔板を保持する軸と、 前記軸に上下摺動可能に設けられ、前記多孔板に対向して前記吐出孔を覆うように備えられたカバーと、 を有することを特徴とする微細気泡発生装置。

IPC (5件)：

B01F 5/06 ,  B01F 3/04 ,  B01F 1/00 ,  H01L 21/304 ,  B08B 3/08

FI (5件)：

B01F5/06 ,  B01F3/04 Z ,  B01F1/00 A ,  H01L21/304 647Z ,  B08B3/08 Z

Fターム (21件)：

3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201BB22 ,  3B201BB92 ,  3B201BB98 ,  4G035AA01 ,  4G035AB15 ,  4G035AC26 ,  4G035AE01 ,  4G035AE13 ,  5F157AA64 ,  5F157AA73 ,  5F157AB02 ,  5F157AB33 ,  5F157AB90 ,  5F157AC01 ,  5F157BB22 ,  5F157BB79 ,  5F157BC52 ,  5F157BD22 ,  5F157DB03