特許
J-GLOBAL ID：201303063193509215

テンプレート洗浄方法、パターン形成方法、光洗浄装置およびナノインプリント装置

発明者：
堀部 大輝

堀部 大輝 について


出願人/特許権者：
ウシオ電機株式会社

ウシオ電機株式会社 について


代理人 (1件)： 大井 正彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-126683
公開番号（公開出願番号）：特開2013-248841
出願日： 2012年06月04日
公開日（公表日）： 2013年12月12日
要約：
【課題】テンプレートのパターン面に残存するレジスト残渣を確実に除去することができるテンプレート洗浄方法および光処理装置、欠陥の少ないパターンを確実に形成することができるパターン形成方法およびナノインプリント装置を提供する。【解決手段】本発明のテンプレート洗浄方法は、ナノインプリントに用いられるテンプレートのパターン面を光洗浄するテンプレート洗浄方法であって、乾燥空気の雰囲気下において、真空紫外光をテンプレートのパターン面に照射する真空紫外光照射工程を有することを特徴とする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
ナノインプリントに用いられるテンプレートのパターン面を光洗浄するテンプレート洗浄方法であって、乾燥空気の雰囲気下において、真空紫外光をテンプレートのパターン面に照射する真空紫外光照射工程を有することを特徴とするテンプレート洗浄方法。
IPC (3件)：
B29C 33/72 ,  B29C 59/02 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
B29C33/72 ,  B29C59/02 B ,  H01L21/30 502D
Fターム (27件)：
4F202AA44 ,  4F202AF01 ,  4F202AG05 ,  4F202AH33 ,  4F202AH63 ,  4F202AM10 ,  4F202AM32 ,  4F202AR06 ,  4F202CA19 ,  4F202CB01 ,  4F202CB29 ,  4F202CS02 ,  4F209AA44 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AH63 ,  4F209AM10 ,  4F209AM32 ,  4F209AR20 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC01 ,  4F209PC05 ,  4F209PN09 ,  4F209PQ11 ,  5F146AA32
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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