特許
J-GLOBAL ID:201303063255104233

低極性ポリマーマトリックス中での高分散性を有するナノスケールグラフェンプレートレットの製造方法及び関連するポリマー組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (6件): 辻居 幸一 ,  熊倉 禎男 ,  箱田 篤 ,  浅井 賢治 ,  山崎 一夫 ,  市川 さつき
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-537452
公開番号(公開出願番号):特表2013-510065
出願日: 2010年10月27日
公開日(公表日): 2013年03月21日
要約:
ナノスケールグラフェンプレートレットを製造する方法であり、(a)黒鉛材料を分子状若しくは原子状酸素又は分子状若しくは原子状酸素を放出可能な物質と接触させることによって、酸素基で官能化した黒鉛材料(FOG)から成る、8:1より高い炭素/酸素モル比を特徴とする前駆体を得て、(b)続いてそのFOG前駆体を(化学的又は物理的に)還元することによって、20:1より高い炭素/酸素モル比を特徴とするナノスケールグラフェンプレートレットを得ることを含む。【選択図】図1
請求項(抜粋):
ナノスケールグラフェンプレートレットを製造する方法であって、 (a)黒鉛材料を分子状若しくは原子状酸素又は分子状若しくは原子状酸素を放出可能な物質と接触させることによって、酸素基で官能化した黒鉛材料(FOG)から成る、8:1より高い炭素/酸素モル比を特徴とする前駆体を得る工程、 (b)続いて前記FOG前駆体を化学的又は物理的に還元することによって、20:1より高い炭素/酸素モル比を特徴とするナノスケールグラフェンプレートレットを得る工程、 を含むことを特徴とする方法。
IPC (5件):
C01B 31/02 ,  C08L 101/00 ,  C08K 7/00 ,  C08K 3/04 ,  C08J 9/04
FI (5件):
C01B31/02 101Z ,  C08L101/00 ,  C08K7/00 ,  C08K3/04 ,  C08J9/04
Fターム (63件):
4F074AA32 ,  4F074AA97 ,  4F074AC02 ,  4F074AE01 ,  4F074AE02 ,  4F074AG01 ,  4F074BA35 ,  4F074BA39 ,  4F074BA95 ,  4F074CA32 ,  4F074CA38 ,  4F074CA46 ,  4F074CA49 ,  4F074CC04X ,  4F074CC04Y ,  4F074CC04Z ,  4F074CC05X ,  4F074CC47Y ,  4F074CD08 ,  4F074DA02 ,  4F074DA07 ,  4F074DA08 ,  4F074DA15 ,  4F074DA18 ,  4F074DA23 ,  4F074DA32 ,  4G146AA01 ,  4G146AA15 ,  4G146AB07 ,  4G146AC01A ,  4G146AC01B ,  4G146AC07A ,  4G146AC07B ,  4G146AC27A ,  4G146AC27B ,  4G146AD22 ,  4G146AD37 ,  4G146BA02 ,  4G146BA41 ,  4G146BB06 ,  4G146BB12 ,  4G146BB22 ,  4G146BC02 ,  4G146BC25 ,  4G146BC33A ,  4G146BC33B ,  4G146BC37A ,  4G146BC37B ,  4G146CB10 ,  4G146CB19 ,  4G146CB35 ,  4J002AA011 ,  4J002BB031 ,  4J002BB121 ,  4J002BC021 ,  4J002BC081 ,  4J002BC091 ,  4J002BN141 ,  4J002DA016 ,  4J002FA016 ,  4J002FD016 ,  4J002FD327 ,  4J002GL00
引用特許:
審査官引用 (5件)
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引用文献:
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