特許
J-GLOBAL ID：201303063420165889
半導体及びプリント回路板プロセッシングからの廃水からの銅の検出及び除去
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石川 泰男
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-559417
特許番号：特許第4883838号
出願日： 1999年07月01日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 半導体またはプリント回路板の製造時の廃水流から銅を検出し除去するためのシステムであり、
a)蛍光光度計と;
b)蛍光性を有する試薬であって、廃水流に添加されたときに、Cu+2イオンの形で存在する銅と反応して、試薬-Cu+2成分を形成し、蛍光性を消光する試薬と;
c)前記廃水流に添加されたときに、Cu+2イオンの形で存在する銅の析出物を生じさせるポリマーと;
d)i)前記廃水に前記ポリマーを添加するための手段、
ii)前記廃水へのポリマーの流量を制御するためのコントローラ、及び、
iii)少なくとも2つのタンク
からなるポリマー供給・反応部と;
e)未反応ポリマーを検出するための少なくとも1つのセンサと;
f)前記廃水流から前記析出物を分離するための手段と;
g)前記蛍光光度計からの信号を用いて、廃水流を排出するか、または、更なるポリマー添加処理に供するかを決定するバルブを制御する蛍光コントローラと
を含み、
前記検出された前記未反応ポリマーに応じて前記廃水への前記ポリマーの流量を制御すると共に、
前記ポリマーを添加し、更に前記析出物を分離させた後、前記試薬を添加した前記廃水流の蛍光光度を前記蛍光光度計で測定し、前記蛍光光度計からの信号に応じて前記バルブを制御する
ことを特徴とするシステム。
IPC (3件)：
C02F 1/62 ( 200 6.01)
, C02F 1/42 ( 200 6.01)
, G01N 21/64 ( 200 6.01)
C02F 1/62 C
, C02F 1/42 B
, G01N 21/64 Z
