特許
J-GLOBAL ID：201303063539164090

高コントラスト位置合わせマークを有するテンプレート

発明者：
セリニディス,コスタ

セリニディス,コスタ について


出願人/特許権者：
モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド

モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド について


代理人 (2件)： 山川 政樹 ,  山川 茂樹
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-552119
公開番号（公開出願番号）：特表2013-519236
出願日： 2011年02月04日
公開日（公表日）： 2013年05月23日
要約：
高コントラスト材料の位置合わせマークを有するテンプレートを形成するためのシステム及び方法を説明する。高コントラスト材料は、位置合わせマークの凹部内に位置することができる。【選択図】 図3I
請求項（抜粋）：
インプリントナノリソグラフィ基板のパターニング方法であって、 (a)基板の位置合わせ領域及び特徴部領域上に複数の凸部及び凹部を形成するステップと、 (b)前記位置合わせ領域上に高コントラスト材料を堆積させるステップと、 (c)前記位置合わせ領域及び特徴部領域上に層を形成するステップと、 (d)前記位置合わせ領域から前記形成層の一部を除去して、前記形成層の残存部分を前記位置合わせ領域の前記凹部内にのみ残存させるステップと、 (e)前記位置合わせ領域から前記高コントラスト材料の一部を除去して、前記高コントラスト材料の残存部分を前記位置合わせ領域の前記凹部内にのみ残存させるステップと、 (g)前記位置合わせ領域の前記凹部内の前記形成層の前記残存部分を除去して、前記位置合わせ領域の前記凹部内に残存する前記高コントラスト材料を露出させるステップと、 を含むことを特徴とする方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  B29C 59/02 ,  B29C 33/38
FI (4件)：
H01L21/30 502D ,  H01L21/30 502M ,  B29C59/02 Z ,  B29C33/38
Fターム (29件)：
4F202AA44 ,  4F202AF01 ,  4F202AG05 ,  4F202AH33 ,  4F202AJ06 ,  4F202AK03 ,  4F202AR12 ,  4F202CA19 ,  4F202CB01 ,  4F202CB29 ,  4F202CD05 ,  4F202CD24 ,  4F202CK12 ,  4F202CK90 ,  4F209AA44 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AJ06 ,  4F209AK03 ,  4F209AR12 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PN06 ,  4F209PN09 ,  4F209PN13 ,  4F209PQ11 ,  5F146AA31 ,  5F146FC02
引用特許：
審査官引用 (3件)

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