特許
J-GLOBAL ID：201303064408273940

合成非晶質シリカ粉末及びその製造方法

発明者：
植田 稔晃

植田 稔晃 について

, 
石川 史朗

石川 史朗 について


出願人/特許権者：
三菱マテリアル株式会社

三菱マテリアル株式会社 について


代理人 (1件)： 須田 正義
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-077227
公開番号（公開出願番号）：特開2013-203641
出願日： 2012年03月29日
公開日（公表日）： 2013年10月07日
要約：
【課題】高温及び減圧の環境下での使用において、気泡の発生又は膨張が極めて少ない合成シリカガラス製品のための原料に適する、合成非晶質シリカ粉末及びその製造方法を提供することにある。【解決手段】本発明の合成非晶質シリカ粉末は、造粒されたシリカ粉末に球状化処理を施した後、洗浄し乾燥して得られた合成非晶質シリカ粉末であって、体積基準の粒度分布の最頻値DVMが50〜200μmでその頻度が2〜5%、個数基準の算術平均粒径DNAVが0.4×DVM±10μm、かつ個数基準の粒度分布の最頻値DNMが5〜10μmでその頻度が3〜10%であり、固めかさ密度が1.38g/cm3以上1.50g/cm3以下、円形度が0.85以上1.00以下であり、BET比表面積を理論比表面積で割った値が1.00〜1.35、真密度が2.10〜2.20g/cm3、粒子内空間率が0.00〜0.05である。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
造粒されたシリカ粉末に球状化処理を施した後、洗浄し乾燥して得られた合成非晶質シリカ粉末であって、 体積基準の粒度分布の最頻値DVMが50〜200μmでその頻度が2〜5%、個数基準の算術平均粒径DNAVが0.4×DVM±10μm、かつ個数基準の粒度分布の最頻値DNMが5〜10μmでその頻度が3〜10%であり、固めかさ密度が1.38g/cm3以上1.50g/cm3以下、円形度が0.85以上1.00以下であり、BET比表面積を理論比表面積で割った値が1.00〜1.35、真密度が2.10〜2.20g/cm3、粒子内空間率が0.00〜0.05である合成非晶質シリカ粉末。
IPC (1件)：
C01B 33/18
FI (1件)：
C01B33/18 Z
Fターム (14件)：
4G072AA25 ,  4G072BB05 ,  4G072BB13 ,  4G072GG02 ,  4G072GG03 ,  4G072HH08 ,  4G072HH19 ,  4G072MM26 ,  4G072MM28 ,  4G072PP05 ,  4G072RR05 ,  4G072RR25 ,  4G072TT02 ,  4G072UU30
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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