特許
J-GLOBAL ID：201303065066614320

レーザ照射装置及びレーザ照射方法

発明者：
荻野 義明

荻野 義明 について

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松島 英紀

松島 英紀 について

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田見 佳晴

田見 佳晴 について

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杉山 雅章

杉山 雅章 について


出願人/特許権者：
日立コンピュータ機器株式会社

日立コンピュータ機器株式会社 について


代理人 (1件)： 林 實
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-136706
公開番号（公開出願番号）：特開2013-004877
出願日： 2011年06月20日
公開日（公表日）： 2013年01月07日
要約：
【課題】円形以外の楕円ビームやラインビームを走査させ、照射対象面を改質するレーザ照射装置及びレーザ照射方法を提供する。【解決手段】照射対象物15を照射するレーザビーム3の走査位置を直交関係のX走査部4とY走査部5とで移動させるレーザビーム位置移動手段(4、5)と、前記レーザビーム3を光軸中心に走査角(θi)を回転させるレーザビーム回転手段2と、これらの手段の動作を制御するマイクロプロセッサ8と、前記制御に係る情報を記憶するメモリ9とを具備するレーザ照射装置1であって、前記レーザビーム3の短軸方向3bに走査方向P1を一致させ、刻々変化する前記レーザビーム3の所定の移動位置ごとに設定した前記走査角(θi)の方向に前記レーザビーム3を走査させる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
照射対象物を照射するレーザビームの走査位置を直交関係のX走査部とY走査部とで移動させるレーザビーム位置移動手段と、前記レーザビームを光軸中心に走査角(θi)を回転させるレーザビーム回転手段と、これらの手段の動作を制御するマイクロプロセッサと、前記制御に係る情報を記憶するメモリとを具備するレーザ照射装置であって、前記レーザビームの短軸方向に走査方向を一致させ、前記レーザビームを走査させることを特徴とするレーザ照射装置。
IPC (3件)：
H01L 21/268 ,  H01L 21/20 ,  B23K 26/00
FI (4件)：
H01L21/268 T ,  H01L21/268 G ,  H01L21/20 ,  B23K26/00 E
Fターム (20件)：
4E068AH00 ,  4E068CD05 ,  4E068CD08 ,  4E068CE04 ,  4E068DA09 ,  4E068DA10 ,  5F152BB02 ,  5F152CE05 ,  5F152EE01 ,  5F152FF03 ,  5F152FF04 ,  5F152FF06 ,  5F152FF07 ,  5F152FF09 ,  5F152FG01 ,  5F152FG23 ,  5F152FG29 ,  5F152FH02 ,  5F152FH03 ,  5F152FH08
引用特許：
審査官引用 (4件)
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