特許

J-GLOBAL ID：201303067043301417

凹凸パターンの形成方法

発明者： 豊島 裕 ,  松井 良隆
出願人/特許権者： 東レフィルム加工株式会社
代理人 (1件)： 岩見 知典
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-178198
公開番号（公開出願番号）：特開2013-039731
出願日： 2011年08月17日
公開日（公表日）： 2013年02月28日
要約：

【課題】 凹凸パターンおよび凹凸形状の制御が行い易い凹凸パターン形成方法を提供する。【解決手段】 基材上に硬化性成分を含む活性エネルギー線硬化性組成物を積層する工程(A)、前記積層された活性エネルギー線硬化性組成物にマスクを介さずにレーザー光を照射する工程(B)、および前記積層された活性エネルギー線硬化性組成物を加熱する工程(C)をこの順に有し、 前記工程(B)において、デジタルミラーデバイスを介してレーザー光の照射量をパターン状に変化させ、かつ該パターンがレーザー光の照射量を段階的に変化させながら照射する領域を有することを特徴とする、凹凸パターンの形成方法。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基材上に硬化性成分を含む活性エネルギー線硬化性組成物を積層する工程(A)、前記積層された活性エネルギー線硬化性組成物にマスクを介さずにレーザー光を照射する工程(B)、および前記積層された活性エネルギー線硬化性組成物を加熱する工程(C)をこの順に有し、 前記工程(B)において、デジタルミラーデバイスを介してレーザー光の照射量をパターン状に変化させ、かつ該パターンがレーザー光の照射量を段階的に変化させながら照射する領域を有することを特徴とする、凹凸パターンの形成方法。

IPC (2件)：

B29C 59/16 ,  G02B 5/02

FI (2件)：

B29C59/16 ,  G02B5/02 C

Fターム (16件)：

2H042BA04 ,  2H042BA14 ,  2H042BA15 ,  4F209AA44 ,  4F209AB04 ,  4F209AF01 ,  4F209AG03 ,  4F209AG05 ,  4F209AH73 ,  4F209AR17 ,  4F209PA15 ,  4F209PB01 ,  4F209PG05 ,  4F209PH27 ,  4F209PN03 ,  4F209PN09