特許

J-GLOBAL ID：201303070264931629

媒質に照射を行う装置及び方法

発明者： 増村 考洋
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (6件)： 大塚 康徳 ,  高柳 司郎 ,  大塚 康弘 ,  木村 秀二 ,  下山 治 ,  永川 行光
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-530949
公開番号（公開出願番号）：特表2013-505110
出願日： 2010年09月17日
公開日（公表日）： 2013年02月14日
要約：

媒質に照射を行う方法は、媒質中で散乱され且つ媒質中のある位置で周波数変調される電磁波を媒質に照射することと、変調された電磁波と参照波との間の干渉により生成される干渉パターンに対応する情報を取得することと、取得された情報に基づいて、媒質に照射される位相共役波を発生することとを含む。

請求項（抜粋）：

電磁波を放射する電磁波源を含み、媒質中で散乱される前記電磁波を前記媒質に照射する第1の照射ユニットと、 前記媒質中のある特定位置で前記電磁波の周波数を変調するために前記媒質へ超音波を送信する超音波装置と、 前記変調された電磁波と参照波との間の干渉により生成される干渉パターンに対応する情報を記録するために参照波をホログラフィック材料に照射する第2の照射ユニットとを備え、 前記第1の照射ユニットは、前記情報が前記ホログラフィック材料に記録された後、前記媒質中の前記位置で前記媒質に照射される再構成波を前記ホログラフィック材料が発生するように、前記ホログラフィック材料に照射を行うように構成されることを特徴とする装置。

IPC (4件)：

A61N 5/067 ,  A61B 8/00 ,  A61B 18/00 ,  A61B 18/20

FI (4件)：

A61N5/06 E ,  A61B8/00 ,  A61B17/36 330 ,  A61B17/36 350

Fターム (22件)：

4C026FF03 ,  4C026FF11 ,  4C026FF34 ,  4C026FF37 ,  4C026FF52 ,  4C026FF53 ,  4C026HH02 ,  4C026HH04 ,  4C026HH18 ,  4C082RE03 ,  4C082RE32 ,  4C082RE34 ,  4C082RE60 ,  4C082RL02 ,  4C082RL04 ,  4C082RL18 ,  4C082RL30 ,  4C160MM32 ,  4C601DD18 ,  4C601DE16 ,  4C601EE05 ,  4C601FF15

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 準実時間光位相共役
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2012-528962   出願人：バイオ-ラドラボラトリーズインコーポレイテッド
• 特開平1-178267