特許
J-GLOBAL ID：201303071759564980
加熱装置、加熱方法及び記憶媒体
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
井上 俊夫
, 三井田 友昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-233502
公開番号（公開出願番号）：特開2013-093391
出願日： 2011年10月25日
公開日（公表日）： 2013年05月16日
要約：
【課題】ウエハWを加熱した際にウエハW上の塗布膜から発生する昇華物について、排気管30内に付着する昇華物を抑えることのできる技術を提供すること。【解決手段】 塗布膜を形成したウエハWに対して処理容器21内で加熱処理を行うにあたって、塗布膜から発生した有機物である昇華物を排気管30の上流部に設けられた捕集部4において強制的に捕集する。捕集部4内に設けた電極部42に高周波電圧をかけることによりプラズマを発生させ、排気流に含まれる酸素を活性化させて酸素の活性種を発生させ、付着した昇華物に供給することにより昇華物を分解除去する。従って排気管30内に付着する昇華物の量が抑えられメンテナンスの頻度を減らすことができる。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
塗布膜が形成された基板を処理容器内にて加熱処理する加熱装置において、
前記処理容器内の雰囲気を排気するための排気路と、
前記排気路に設けられ、前記塗布膜から発生する有機物である昇華物を析出させて捕集する捕集部と、
酸素を含む気体をプラズマ化し、これにより得た酸素の活性種を、前記捕集部にて捕集された昇華物を分解するために当該昇華物に供給するプラズマ発生部と、を備えたことを特徴とする加熱装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (2件)：
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