特許
J-GLOBAL ID:201303072227162162

インプリント用光硬化性組成物および微細パターンを表面に有する成形体の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-117491
公開番号(公開出願番号):特開2013-245229
出願日: 2012年05月23日
公開日(公表日): 2013年12月09日
要約:
【課題】基板との密着性およびモールドとの離型性の両方に優れた硬化物を形成でき、かつ各成分の相溶性が良好なインプリント用光硬化性組成物、およびモールドの反転パターンが精密に転写された微細パターンを表面に有し、該微細パターンが形成された硬化物が基板との密着性に優れ、かつ均質である成形体を製造できる方法を提供する。【解決手段】化合物(A):フッ素原子を有し、かつ炭素-炭素不飽和二重結合を1つ以上有する化合物と、化合物(B):水酸基を有するアクリルアミド類と、化合物(C):炭素-炭素不飽和二重結合を1つ以上有する化合物と、光重合開始剤(D)とを含み、(A)〜(D)の合計100質量%のうち、化合物(A)が1〜50質量%であり、化合物(B)が1〜43質量%であり、化合物(C)が6〜92質量%であり、光重合開始剤(D)が0.5〜17質量%であるインプリント用光硬化性組成物を用いる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
下記化合物(A)と、下記化合物(B)と、下記化合物(C)と、光重合開始剤(D)とを含み、 化合物(A)、化合物(B)、化合物(C)および光重合開始剤(D)の合計100質量%のうち、化合物(A)が1〜50質量%であり、化合物(B)が1〜43質量%であり、化合物(C)が6〜92質量%であり、光重合開始剤(D)が0.5〜17質量%である、インプリント用光硬化性組成物。 化合物(A):フッ素原子を有し、かつ炭素-炭素不飽和二重結合を1つ以上有する化合物。 化合物(B):水酸基を有するアクリルアミド類(ただし、化合物(A)を除く。)。 化合物(C):炭素-炭素不飽和二重結合を1つ以上有する化合物(ただし、化合物(A)、化合物(B)およびカルボン酸基を有し、かつ炭素-炭素不飽和二重結合を1つ以上有する化合物(E)を除く。)。
IPC (3件):
C08F 2/48 ,  C08F 220/22 ,  C08F 220/58
FI (3件):
C08F2/48 ,  C08F220/22 ,  C08F220/58
Fターム (51件):
4J011AA05 ,  4J011AC04 ,  4J011QA02 ,  4J011QA03 ,  4J011QA06 ,  4J011QA07 ,  4J011QA12 ,  4J011QA13 ,  4J011QA22 ,  4J011QA23 ,  4J011SA22 ,  4J011SA32 ,  4J011SA64 ,  4J011SA65 ,  4J011SA83 ,  4J011SA84 ,  4J011TA08 ,  4J011UA01 ,  4J011UA06 ,  4J011VA01 ,  4J011WA01 ,  4J100AL04R ,  4J100AL08P ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100AL63R ,  4J100AL66R ,  4J100AL67R ,  4J100AM21Q ,  4J100AM25Q ,  4J100AS13P ,  4J100BA02S ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA08R ,  4J100BA16S ,  4J100BA38R ,  4J100BA80R ,  4J100BB07P ,  4J100BB17P ,  4J100BB18P ,  4J100BC07R ,  4J100BC09R ,  4J100BC43S ,  4J100BC45R ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA09 ,  4J100FA03 ,  4J100JA32 ,  4J100JA43
引用特許:
審査官引用 (4件)
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