特許
J-GLOBAL ID:201303072227162162
インプリント用光硬化性組成物および微細パターンを表面に有する成形体の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 鈴木 三義
, 柳井 則子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-117491
公開番号(公開出願番号):特開2013-245229
出願日: 2012年05月23日
公開日(公表日): 2013年12月09日
要約:
【課題】基板との密着性およびモールドとの離型性の両方に優れた硬化物を形成でき、かつ各成分の相溶性が良好なインプリント用光硬化性組成物、およびモールドの反転パターンが精密に転写された微細パターンを表面に有し、該微細パターンが形成された硬化物が基板との密着性に優れ、かつ均質である成形体を製造できる方法を提供する。【解決手段】化合物(A):フッ素原子を有し、かつ炭素-炭素不飽和二重結合を1つ以上有する化合物と、化合物(B):水酸基を有するアクリルアミド類と、化合物(C):炭素-炭素不飽和二重結合を1つ以上有する化合物と、光重合開始剤(D)とを含み、(A)〜(D)の合計100質量%のうち、化合物(A)が1〜50質量%であり、化合物(B)が1〜43質量%であり、化合物(C)が6〜92質量%であり、光重合開始剤(D)が0.5〜17質量%であるインプリント用光硬化性組成物を用いる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
下記化合物(A)と、下記化合物(B)と、下記化合物(C)と、光重合開始剤(D)とを含み、
化合物(A)、化合物(B)、化合物(C)および光重合開始剤(D)の合計100質量%のうち、化合物(A)が1〜50質量%であり、化合物(B)が1〜43質量%であり、化合物(C)が6〜92質量%であり、光重合開始剤(D)が0.5〜17質量%である、インプリント用光硬化性組成物。
化合物(A):フッ素原子を有し、かつ炭素-炭素不飽和二重結合を1つ以上有する化合物。
化合物(B):水酸基を有するアクリルアミド類(ただし、化合物(A)を除く。)。
化合物(C):炭素-炭素不飽和二重結合を1つ以上有する化合物(ただし、化合物(A)、化合物(B)およびカルボン酸基を有し、かつ炭素-炭素不飽和二重結合を1つ以上有する化合物(E)を除く。)。
IPC (3件):
C08F 2/48
, C08F 220/22
, C08F 220/58
FI (3件):
C08F2/48
, C08F220/22
, C08F220/58
Fターム (51件):
4J011AA05
, 4J011AC04
, 4J011QA02
, 4J011QA03
, 4J011QA06
, 4J011QA07
, 4J011QA12
, 4J011QA13
, 4J011QA22
, 4J011QA23
, 4J011SA22
, 4J011SA32
, 4J011SA64
, 4J011SA65
, 4J011SA83
, 4J011SA84
, 4J011TA08
, 4J011UA01
, 4J011UA06
, 4J011VA01
, 4J011WA01
, 4J100AL04R
, 4J100AL08P
, 4J100AL08R
, 4J100AL08S
, 4J100AL63R
, 4J100AL66R
, 4J100AL67R
, 4J100AM21Q
, 4J100AM25Q
, 4J100AS13P
, 4J100BA02S
, 4J100BA03P
, 4J100BA03Q
, 4J100BA08R
, 4J100BA16S
, 4J100BA38R
, 4J100BA80R
, 4J100BB07P
, 4J100BB17P
, 4J100BB18P
, 4J100BC07R
, 4J100BC09R
, 4J100BC43S
, 4J100BC45R
, 4J100CA05
, 4J100CA06
, 4J100DA09
, 4J100FA03
, 4J100JA32
, 4J100JA43
引用特許: