特許
J-GLOBAL ID:201303072609769415
蒸気処理装置
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
,
,
代理人 (1件):
大谷 嘉一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-128752
公開番号(公開出願番号):特開2012-255591
出願日: 2011年06月08日
公開日(公表日): 2012年12月27日
要約:
【課題】処理室内に蒸気を供給することで低酸素下の還元雰囲気にしつつ、加熱ヒーターによる加熱域と処理室から被処理物の搬出側に冷却域を設けることで有機系の物質を固液状態により殺菌、加熱処理、乾燥及び炭化処理等、目的に応じた蒸気処理を可能にした処理装置の提供を目的とする。【解決手段】被処理品の投入口及び搬出口が開口されたトンネル型の処理装置であって、トンネル型の処理室を通過するように搬送コンベアを配置し、前記トンネル型の処理室は蒸気供給手段により内部に蒸気が供給されるとともに、当該処理室の搬出口よりも所定の距離を隔てた内部に加熱ヒーターを備えたことを特徴とする。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
被処理品の投入口及び搬出口が開口されたトンネル型の処理装置であって、
トンネル型の処理室を通過するように搬送コンベアを配置し、
前記トンネル型の処理室は蒸気供給手段により内部に蒸気が供給されるとともに、当該処理室の搬出口よりも所定の距離を隔てた内部に加熱ヒーターを備えたことを特徴とする蒸気処理装置。
IPC (2件):
FI (2件):
F26B15/18 B
, A47J27/16 G
Fターム (24件):
3L113AA03
, 3L113AB02
, 3L113AC05
, 3L113AC10
, 3L113AC36
, 3L113AC45
, 3L113AC46
, 3L113AC48
, 3L113AC56
, 3L113AC67
, 3L113AC76
, 3L113BA05
, 3L113BA16
, 3L113CB05
, 3L113CB06
, 3L113CB22
, 3L113DA07
, 3L113DA30
, 4B054AA17
, 4B054AB03
, 4B054AB06
, 4B054AC03
, 4B054BA01
, 4B054BB11
前のページに戻る