特許

J-GLOBAL ID：201303073129386598

反射型マスクブランクス、反射型マスク、および、それらの製造方法

発明者： 尾ヶ瀬 太一 ,  安部 司 ,  稲月 友一
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (6件)： 金山 聡 ,  深町 圭子 ,  伊藤 英生 ,  藤枡 裕実 ,  後藤 直樹 ,  伊藤 裕介
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-268631
公開番号（公開出願番号）：特開2013-120868
出願日： 2011年12月08日
公開日（公表日）： 2013年06月17日
要約：

【課題】 本発明は、遮光枠部で囲まれた転写領域の帯電を防止しつつ、前記遮光枠部におけるEUV光の反射を十分に低減させることができ、かつ、反射層のフラットネス悪化や位相欠陥の発生を抑制し、繰り返しの洗浄に対しても前記遮光枠部における反射層の側面を保護して異物発生を防止できる反射型マスクブランクス、反射型マスク、および、それらの製造方法を提供することを目的とするものである。【解決手段】 前記遮光枠部で囲まれた転写領域、および、前記遮光枠部が形成された領域の外側の領域の表面のみならず、前記遮光枠部の側面、および、前記遮光枠部の底面も、吸収層で被覆することにより、上記課題を解決する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

基板と、前記基板の主面の上に形成された多層膜からなる反射層と、前記反射層の上に形成された吸収層と、を少なくとも部分的に有するEUV露光用の反射型マスクブランクスであって、 前記反射型マスクブランクスの転写領域の外周には、前記反射層が前記基板の主面に達するまで除去された遮光枠部が形成されており、 前記転写領域の表面、前記遮光枠部の側面、前記遮光枠部の底面、および、前記遮光枠部が形成された領域の外側の領域の表面を、前記吸収層が被覆していることを特徴とする反射型マスクブランクス。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/22

FI (2件)：

H01L21/30 531M ,  G03F1/16 A

Fターム (15件)：

2H095BA01 ,  2H095BA02 ,  2H095BA10 ,  2H095BB16 ,  2H095BB25 ,  2H095BC08 ,  2H095BC09 ,  2H095BC10 ,  2H095BC14 ,  2H095BC28 ,  5F146GA21 ,  5F146GA28 ,  5F146GD02 ,  5F146GD22 ,  5F146GD24