特許
J-GLOBAL ID：201303074403519466
製作誤差評価方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
中前 富士男
, 来田 義弘
, 今中 崇之
, 清井 洋平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-271510
公開番号（公開出願番号）：特開2013-122429
出願日： 2011年12月12日
公開日（公表日）： 2013年06月20日
要約：
【課題】写真計測用ターゲット上の光反射部の配置を解析することにより、該写真計測用ターゲットが設置されている位置におけるオフセットを自動認識して計測対象物の3次元計測座標値を算出し、該計測対象物の3次元設計座標値との比較を行う製作誤差評価方法を提供する。【解決手段】複数の計測点を計測対象物に設定し、計測点ごとに設置した写真計測用ターゲットを写真計測して計測対象物の形状を3次元計測座標値として求め、計測対象物の3次元計測座標値を計測対象物の3次元設計座標値と比較することにより計測対象物の製作誤差の評価を行う方法において、写真計測用ターゲットの表面に複数の光反射部が配置され、計測点と該計測点に設置されている写真計測用ターゲットの光反射部との間のオフセットが、光反射部の配置パターンごとに設定されている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
計測対象物に複数の計測点を設定して前記計測点ごとに写真計測用ターゲットを設置し、前記計測対象物を写真計測して該計測対象物の形状を3次元計測座標値として求め、前記計測対象物の3次元計測座標値を該計測対象物の3次元設計座標値と比較することにより前記計測対象物の製作誤差の評価を行う方法において、
前記写真計測用ターゲットの表面に複数の光反射部が配置され、前記計測点と該計測点に設置されている前記写真計測用ターゲットの前記光反射部との間のオフセットが、前記光反射部の配置パターンごとに設定されていることを特徴とする製作誤差評価方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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