特許

J-GLOBAL ID：201303074557587731

プラズマ処理装置

発明者： 山田 紀和 ,  立川 俊文 ,  永海 幸一 ,  池成 達也 ,  前原 大輔
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社 ,  株式会社ダイヘン
代理人 (1件)： 佐々木 聖孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-286024
公開番号（公開出願番号）：特開2013-135159
出願日： 2011年12月27日
公開日（公表日）： 2013年07月08日
要約：

【課題】スイッチング方式の高周波電源にパワー変調をかける際に高周波給電ライン上でRFパワー裾曳き現象が発生するのを簡便かつ確実に防止する。【解決手段】この容量結合型のプラズマ処理装置は、真空チャンバ10内にサセプタ(下部電極)16とシャワーヘッドを兼ねる上部電極46とを対向させて配置している。サセプタ16には、第1および第2高周波電源36,38がそれぞれ整合器40,42を介して電気的に接続されている。第1高周波電源36は、リニアアンプ方式の高周波電源からなり、プラズマ生成用の第1高周波RF1を出力する。第2高周波電源38は、スイッチング方式の高周波電源からなり、イオン引き込み用の第2高周波RF2を出力する。第2高周波電源38側の高周波給電ライン43には残留高周波除去部74が接続されている。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

被処理基板を出し入れ可能に収容する真空排気可能な処理容器内で処理ガスのプラズマを生成し、前記プラズマの下で前記基板に所望の処理を施すプラズマ処理装置であって、 直流電源とスイッチング素子とを有し、前記スイッチング素子をスイッチングパルスにより高周波帯域の周波数でオン/オフすることにより、前記直流電源の直流出力を高周波出力に変換するスイッチング方式の高周波電源と、 前記高周波電源より出力される前記高周波を前記プラズマに供給するための高周波給電ラインと、 前記高周波給電ライン上で前記高周波電源側のインピーダンスとその負荷側のインピーダンスとを整合させるための整合器と、 前記高周波のパワーがオン状態になるオン期間とオフ状態になるオフ期間とを一定のパルス周波数で交互に繰り返すように、前記高周波電源を制御する高周波パワー変調部と、 前記パルス周波数の各サイクルにおいて前記オフ期間中に前記高周波給電ライン上に残留している高周波を除去するための残留高周波除去部と を具備するプラズマ処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/306 ,  H01L 21/31 ,  C23C 16/509 ,  H05H 1/46

FI (5件)：

H01L21/302 101B ,  H01L21/31 C ,  C23C16/509 ,  H05H1/46 M ,  H05H1/46 R

Fターム (17件)：

4K030CA12 ,  4K030FA03 ,  4K030KA30 ,  4K030LA15 ,  5F004BA09 ,  5F004BB11 ,  5F004BB22 ,  5F004BB23 ,  5F004BB25 ,  5F004BB28 ,  5F004BB29 ,  5F004CA06 ,  5F045AA08 ,  5F045AB32 ,  5F045AB33 ,  5F045EH05 ,  5F045EH14