特許
J-GLOBAL ID:201303075622569351

副生物除去工程を含む、硫化水素及び二酸化硫黄含有ガスの処理方法と装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 宮崎 昭夫 ,  太田 顕学 ,  石橋 政幸 ,  緒方 雅昭
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-329748
公開番号(公開出願番号):特開2000-159510
特許番号:特許第4731647号
出願日: 1999年11月19日
公開日(公表日): 2000年06月13日
請求項(抜粋):
【請求項1】 少なくとも硫化水素(H2S)と二酸化硫黄(SO2)とを含むガスの処理方法において、該ガスを適当な温度で一種以上の触媒を含む有機溶媒と接触させ、実質的に硫化水素及び二酸化硫黄を含まないガス排出物ならびに液-液デカンテーションにより該溶媒から分離した液体硫黄を回収する方法であって; 少なくとも前記溶媒、前記触媒、硫黄及び副生物を含む流体Fを接触工程後に抜き出し、 前記流体Fを、前記副生物を少なくとも部分的に析出させる所定の温度に加熱する少なくとも1つの工程と、析出した副生物の少なくとも一部を、少なくとも溶媒を含む前記流体Fの残りから分離する少なくとも1つの工程とを含む処理工程に流体Fを送り、 該処理工程後、副生物が殆ど除去され主として前記溶媒、前記触媒及び硫黄を含む流体F1と、大部分の前記副生物を含む流体F2とを回収し、 前記流体F1を冷却して前記接触工程にリサイクルし、前記ガスと接触させる ことを特徴とする前記ガスの処理方法。
IPC (1件):
C01B 17/04 ( 200 6.01)
FI (1件):
C01B 17/04 R
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • 特開昭58-161908
  • 特開昭58-161908
  • 特公昭46-022728

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