特許

J-GLOBAL ID：201303075947176437

レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明者： 杉原 昌子 ,  山下 裕子 ,  坂本 宏 ,  吉田 勲 ,  市川 幸司
出願人/特許権者： 住友化学株式会社
代理人 (2件)： 中山 亨 ,  坂元 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-143827
公開番号（公開出願番号）：特開2013-033230
出願日： 2012年06月27日
公開日（公表日）： 2013年02月14日
要約：

【課題】ラインエッジラフネス(LER)がより良好なレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供すること。【解決手段】酸分解性基を有する樹脂(A)と、式(B3)[式(B3)中、Aa+は、酸分解性基を有し、窒素原子を有さない有機カチオンを表す。]で表される塩(B3)と、式(E2)[式(E2)中、A+は、窒素原子を有さない有機カチオンを表す。XN-は、窒素原子を有する有機スルホン酸アニオンを表す。]で表される塩(E2)とを含有するレジスト組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

酸分解性基を有する樹脂(A)と、 式(B3)

IPC (4件)：

G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  C09K 3/00 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  C09K3/00 K ,  H01L21/30 502R

Fターム (30件)：

2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF22P ,  2H125AF38P ,  2H125AF70P ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AJ13Y ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ14Y ,  2H125AJ18Y ,  2H125AJ44Y ,  2H125AJ48Y ,  2H125AJ59Y ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ69X ,  2H125AJ69Y ,  2H125AL03 ,  2H125AL22 ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN54P ,  2H125AN65P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB12 ,  2H125CB16 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15