特許
J-GLOBAL ID：201303076231545861
水質制御装置及び水質制御方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
西村 竜平
, 佐藤 明子
, 齊藤 真大
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-272353
公開番号（公開出願番号）：特開2013-123656
出願日： 2011年12月13日
公開日（公表日）： 2013年06月24日
要約：
【課題】被処理水中にプラズマを発生させることで水質制御を行う水質制御装置において、気泡密度が高い位置にプラズマ発生電極を設けることにより、活性種の生成効率を向上するとともに、被処理水に含まれる有機物やバクテリア等と活性種の反応効率を向上する。【解決手段】被処理水を流通させる流通路1と、前記流通路1に設けられ、スロート部2を有するノズル部3と、前記スロート部2内にプラズマ発生部位41が設けられた一対のプラズマ発生電極4と、前記プラズマ発生電極4よりも上流側に設けられ、前記流通路1内の被処理水に気体を導入する気体導入口51を有する気体導入部5とを備える。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
被処理水を流通させる流通路と、
前記流通路に設けられ、流路断面積が最小である最小流路又は当該最小流路と当該最小流路に対して4倍以下の流路断面積である流路とからなるスロート部を有するノズル部と、
前記スロート部内にプラズマ発生部位が設けられた一対のプラズマ発生電極と、
前記プラズマ発生電極よりも上流側に設けられ、前記流通路内の被処理水に気体を導入する気体導入口を有する気体導入部とを備える水質制御装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (12件)：
4D061DA01
, 4D061DB01
, 4D061DB09
, 4D061DB19
, 4D061DC08
, 4D061EA13
, 4D061EB01
, 4D061EB14
, 4D061EB18
, 4D061EB19
, 4D061EB33
, 4D061ED20
