特許

J-GLOBAL ID：201303076421392280

荷電粒子照射システムおよび照射計画装置

発明者： 藤井 祐介 ,  藤本 林太郎 ,  梅澤 真澄 ,  松浦 妙子 ,  宮本 直樹 ,  清水 伸一 ,  寅松 千枝 ,  ▲高▼尾 聖心 ,  二本木 英明 ,  平田 雄一 ,  梅垣 菊男
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  国立大学法人北海道大学
代理人 (2件)： 春日 讓 ,  猪野木 雄一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-068047
公開番号（公開出願番号）：特開2013-198579
出願日： 2012年03月23日
公開日（公表日）： 2013年10月03日
要約：

【課題】スキャニング照射法による粒子線照射システムにおいて、照射時間(治療時間)を短縮しかつ計画通りの線量分布を形成することができる荷電粒子照射システムおよび照射計画装置を提供する。【解決手段】制御システム7は、標的監視装置である動体追跡装置49からの信号に基づき走査電磁石31,32の励磁電流値を補正して荷電粒子ビームを照射標的26に照射する追尾照射と、標的監視装置からの信号に基づき照射装置21から照射される荷電粒子ビームの照射開始と照射停止を制御するゲート照射とを行う。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

荷電粒子ビームを生成して出射する加速器と、 前記荷電粒子ビームを走査する走査電磁石を有し、前記荷電粒子ビームを照射標的に照射する照射装置と、 前記照射標的の位置を計測する標的監視装置と、 前記標的監視装置からの信号に基づき前記走査電磁石の励磁電流値を補正して前記荷電粒子ビームを照射標的に照射する追尾照射と、前記標的監視装置からの信号に基づき前記照射装置から照射される荷電粒子ビームの照射開始と照射停止を制御するゲート照射とを行う制御装置とを備えることを特徴とする荷電粒子照射システム。

IPC (1件)：

A61N 5/10

FI (3件)：

A61N5/10 D ,  A61N5/10 H ,  A61N5/10 M

Fターム (9件)：

4C082AA01 ,  4C082AC04 ,  4C082AE01 ,  4C082AG05 ,  4C082AG12 ,  4C082AJ05 ,  4C082AN01 ,  4C082AP01 ,  4C082AP07