特許
J-GLOBAL ID:201303077402539454
滑り軸受要素を製造する方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (6件):
青木 篤
, 島田 哲郎
, 三橋 真二
, 三橋 庸良
, 森本 有一
, 篠田 拓也
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-537260
公開番号(公開出願番号):特表2013-509500
出願日: 2010年11月05日
公開日(公表日): 2013年03月14日
要約:
本発明は、ガス雰囲気中におけるカソードスパッタリングにより、且つ、少なくとも1つの金属ターゲット(16)を使用することにより、摩擦的に有効な摺動層(6)を有する基材の表面(5)を被覆することによって滑り軸受要素(1)を製造する方法であって、円筒形空洞(3)を有する基材が使用され、且つ、ターゲット(16)は、空洞(3)内に少なくとも部分的に配置され、且つ、更には、ターゲット(16)をスパッタリングするための放電は、第3電極(26)によって支持又は維持される方法に関する。
請求項(抜粋):
ガス雰囲気中におけるカソードスパッタリングにより、且つ、少なくとも1つの金属ターゲット(16)を使用することにより、摩擦的に有効な摺動層(6)が配設された基材の表面(5)を被覆することによって滑り軸受要素(1)を製造する方法であって、
円筒形空洞(3)を有する基材が使用され、且つ、ターゲット(16)は、空洞(3)内に少なくとも部分的に配置され、且つ、更には、ターゲット(16)をスパッタリングするための放電は、第3電極(26)によって支持又は維持されることを特徴とする方法。
IPC (3件):
C23C 14/34
, C23C 14/14
, C23C 14/02
FI (4件):
C23C14/34 T
, C23C14/14 D
, C23C14/34 B
, C23C14/02 Z
Fターム (15件):
4K029AA02
, 4K029AA27
, 4K029BA21
, 4K029BA23
, 4K029BC02
, 4K029BD04
, 4K029CA05
, 4K029CA13
, 4K029DC04
, 4K029DC08
, 4K029DC13
, 4K029DC31
, 4K029DC34
, 4K029EA09
, 4K029FA05
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