レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、酸発生剤

発明者： , , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：棚井澄雄 , 志賀正武 , 鈴木三義 , 五十嵐光永
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-268855
公開番号（公開出願番号）：特開2013-101355
出願日： 2012年12月07日
公開日（公表日）： 2013年05月23日
要約：

【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な新規な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分、および露光により酸を発生する酸発生剤成分を含有するレジスト組成物であって、酸発生剤成分が、一般式(b1-11)で表される化合物からなる酸発生剤を含むことを特徴とするレジスト組成物。式(b1-11)中、R7”〜R9”のうち少なくとも1つは、置換基として式(I)で表される基を有する置換アリール基であり、式(I)中のWは2価の連結基である。X-は、式(b-3)または(b-4)で表されるアニオンである。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分(B)が、下記一般式(b1-11)で表される化合物からなる酸発生剤(B1)を含むことを特徴とするレジスト組成物。

IPC (17件)：

G03F 7/004 , G03F 7/039 , C07C 381/12 , C07C 311/51 , C07C 311/48 , C07C 309/17 , C07C 309/10 , C07C 309/11 , C07C 309/07 , C07C 309/04 , C09K 3/00 , C08F 20/18 , C08F 20/36 , C07D 285/00 , C07D 213/79 , C07D 327/04 , C07D 493/18

FI (17件)：

G03F7/004 503A , G03F7/039 601 , C07C381/12 , C07C311/51 , C07C311/48 , C07C309/17 , C07C309/10 , C07C309/11 , C07C309/07 , C07C309/04 , C09K3/00 K , C08F20/18 , C08F20/36 , C07D285/00 , C07D213/79 , C07D327/04 , C07D493/18

Fターム (61件)：

2H125AC01 , 2H125AF18P , 2H125AF33P , 2H125AF35P , 2H125AF36P , 2H125AF38P , 2H125AF39P , 2H125AF45P , 2H125AH17 , 2H125AJ14X , 2H125AJ63X , 2H125AJ65X , 2H125AJ69X , 2H125AM22P , 2H125AM94P , 2H125AM99P , 2H125AN38P , 2H125AN39P , 2H125AN63P , 2H125BA01P , 2H125BA26P , 2H125CA12 , 2H125CB09 , 2H125CC03 , 2H125CC15 , 4C023AA01 , 4C036AD02 , 4C036AD04 , 4C036AD18 , 4C036AD25 , 4C036AD27 , 4C055AA01 , 4C055BA01 , 4C055CA01 , 4C055DA57 , 4C055DB02 , 4C055DB08 , 4C055GA01 , 4C071AA03 , 4C071BB02 , 4C071CC12 , 4C071EE15 , 4C071FF15 , 4C071HH05 , 4C071HH09 , 4C071LL03 , 4C071LL10 , 4H006AA01 , 4H006AA03 , 4H006AB78 , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100AL08S , 4J100BA03R , 4J100BA11P , 4J100BC03R , 4J100BC09Q , 4J100BC53P , 4J100CA03 , 4J100JA38

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