特許

J-GLOBAL ID：201303077868199203

剥離強度試験用サンプルの作成方法

発明者： 片岡 利幸
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人深見特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-005095
公開番号（公開出願番号）：特開2013-145143
出願日： 2012年01月13日
公開日（公表日）： 2013年07月25日
要約：

【課題】正確な剥離強度試験を行なうことができるような剥離強度試験用サンプルの作成方法を提供する。【解決手段】剥離強度試験用サンプルの作成方法は、透明基板1の表面に形成された透明導電性酸化膜2と透明導電性酸化膜2の表面に形成されたシリコン膜3とを含む対象物101における透明導電性酸化膜2とシリコン膜3との間の剥離強度試験を行なうためのサンプルの作成方法であって、対象物101を、第2高調波発生レーザの光源60に対して位置合わせする工程と、対象物101に対して透明基板1の側から光源60によるレーザ光61を照射して格子状に走査することによって、透明導電性酸化膜2は残しつつシリコン膜3を格子状に切断する工程とを含む。【選択図】図5

請求項（抜粋）：

透明基板の表面に形成された透明導電性酸化膜と前記透明導電性酸化膜の表面に形成されたシリコン膜とを含む対象物における前記透明導電性酸化膜と前記シリコン膜との間の剥離強度試験を行なうためのサンプルの作成方法であって、 前記対象物を、第2高調波発生レーザの光源に対して位置合わせする工程と、 前記対象物に対して前記透明基板の側から前記光源によるレーザ光を照射して格子状に走査することによって、前記透明導電性酸化膜は残しつつ前記シリコン膜を格子状に切断する工程とを含む、剥離強度試験用サンプルの作成方法。

IPC (2件)：

G01N 19/04 ,  H01L 31/04

FI (3件)：

G01N19/04 D ,  H01L31/04 M ,  H01L31/04 K

Fターム (8件)：

5F151AA05 ,  5F151EA10 ,  5F151EA11 ,  5F151EA16 ,  5F151FA02 ,  5F151FA04 ,  5F151GA03 ,  5F151KA09