特許
J-GLOBAL ID:201303078439503111
化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-211253
公開番号(公開出願番号):特開2013-100260
出願日: 2012年09月25日
公開日(公表日): 2013年05月23日
要約:
【課題】マスクエラーファクター優れたレジストパターンレジストパターンを得ることができる化合物、樹脂、レジスト組成物等を提供することを目的とする。【解決手段】式(I)で表される化合物、この化合物に由来する構造単位を有する樹脂と、酸発生剤とを含有するレジスト組成物。[式中、R1及びR2は、それぞれ独立に、炭素数1〜6の脂肪族炭化水素基を表すか又はR1及びR2が互いに結合し、それらが結合している炭素原子とともに炭素数5〜20の環を形成する。R4は、エチレン性二重結合を含む基を表す。Wは、炭素数6〜18の2価の脂環式炭化水素基を表す。T1は、単結合、炭素数1〜6の2価の脂肪族炭化水素基等を表す。T2は、炭素数1〜6の2価の脂肪族炭化水素基等を表す。]【選択図】なし
請求項(抜粋):
式(I)で表される化合物。
IPC (5件):
C07D 317/24
, G03F 7/004
, G03F 7/039
, C08F 20/18
, C07D 317/72
FI (6件):
C07D317/24
, G03F7/004 501
, G03F7/004 503A
, G03F7/039 601
, C08F20/18
, C07D317/72
Fターム (64件):
2H125AF17P
, 2H125AF38P
, 2H125AH17
, 2H125AH19
, 2H125AH23
, 2H125AJ14X
, 2H125AJ14Y
, 2H125AJ43Y
, 2H125AJ48Y
, 2H125AJ64X
, 2H125AJ65X
, 2H125AJ68X
, 2H125AJ68Y
, 2H125AJ69X
, 2H125AJ69Y
, 2H125AM22P
, 2H125AM99P
, 2H125AN02P
, 2H125AN21P
, 2H125AN38P
, 2H125AN39P
, 2H125AN45P
, 2H125AN54P
, 2H125AN65P
, 2H125AN67P
, 2H125BA02P
, 2H125BA26P
, 2H125CA12
, 2H125CB09
, 2H125CB12
, 2H125CB16
, 2H125CC03
, 2H125CC15
, 2H125FA03
, 4C022FA02
, 4J100AB07Q
, 4J100AL08P
, 4J100AL08Q
, 4J100AL08R
, 4J100AL08S
, 4J100AL08T
, 4J100BA03Q
, 4J100BA03R
, 4J100BA11S
, 4J100BA11T
, 4J100BA15P
, 4J100BA15S
, 4J100BA15T
, 4J100BB18P
, 4J100BC04Q
, 4J100BC04T
, 4J100BC08S
, 4J100BC09P
, 4J100BC09R
, 4J100BC09T
, 4J100BC53T
, 4J100BC54S
, 4J100BC59T
, 4J100BC84Q
, 4J100CA03
, 4J100DA01
, 4J100FA03
, 4J100FA19
, 4J100JA38
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