特許
J-GLOBAL ID:201303078439503111

化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-211253
公開番号(公開出願番号):特開2013-100260
出願日: 2012年09月25日
公開日(公表日): 2013年05月23日
要約:
【課題】マスクエラーファクター優れたレジストパターンレジストパターンを得ることができる化合物、樹脂、レジスト組成物等を提供することを目的とする。【解決手段】式(I)で表される化合物、この化合物に由来する構造単位を有する樹脂と、酸発生剤とを含有するレジスト組成物。[式中、R1及びR2は、それぞれ独立に、炭素数1〜6の脂肪族炭化水素基を表すか又はR1及びR2が互いに結合し、それらが結合している炭素原子とともに炭素数5〜20の環を形成する。R4は、エチレン性二重結合を含む基を表す。Wは、炭素数6〜18の2価の脂環式炭化水素基を表す。T1は、単結合、炭素数1〜6の2価の脂肪族炭化水素基等を表す。T2は、炭素数1〜6の2価の脂肪族炭化水素基等を表す。]【選択図】なし
請求項(抜粋):
式(I)で表される化合物。
IPC (5件):
C07D 317/24 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  C08F 20/18 ,  C07D 317/72
FI (6件):
C07D317/24 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  C08F20/18 ,  C07D317/72
Fターム (64件):
2H125AF17P ,  2H125AF38P ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH23 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ14Y ,  2H125AJ43Y ,  2H125AJ48Y ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ68Y ,  2H125AJ69X ,  2H125AJ69Y ,  2H125AM22P ,  2H125AM99P ,  2H125AN02P ,  2H125AN21P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN65P ,  2H125AN67P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CB12 ,  2H125CB16 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  4C022FA02 ,  4J100AB07Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100AL08T ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03R ,  4J100BA11S ,  4J100BA11T ,  4J100BA15P ,  4J100BA15S ,  4J100BA15T ,  4J100BB18P ,  4J100BC04Q ,  4J100BC04T ,  4J100BC08S ,  4J100BC09P ,  4J100BC09R ,  4J100BC09T ,  4J100BC53T ,  4J100BC54S ,  4J100BC59T ,  4J100BC84Q ,  4J100CA03 ,  4J100DA01 ,  4J100FA03 ,  4J100FA19 ,  4J100JA38

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