特許
J-GLOBAL ID：201303078698152440
真空蒸着方法及びその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
ポレール特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-079798
公開番号（公開出願番号）：特開2013-211137
出願日： 2012年03月30日
公開日（公表日）： 2013年10月10日
要約：
【課題】真空蒸着における蒸着材料の利用効率を高めた有機ELデバイスの真空蒸着装置及びその方法を提供する。 【解決手段】有機ELデバイスの真空蒸着装置において、蒸発源のヒータからの輻射熱が直接シャドウマスクを過熱するのを防止するために、水冷式の冷却板をヒータとシャドウマスクとの間に設けることにより、蒸着源とシャドウマスクとの間隔を従来に比べて狭めることを可能にして、蒸発させた有機EL材料のうち基板上への成膜に使用される割合を高めて蒸着材料の利用効率を高めた。【選択図】図5A
請求項（抜粋）：
真空排気されたチャンバ内において、パネル状の基板に加熱により気化された蒸着材料を蒸着する真空蒸着装置であって、
基板を保持する保持手段と、
蒸着材料を気化させて線上に配置した複数のノズルから放出する一方向に長い形状を有する蒸発源と、
前記蒸発源の長い一方向と垂直な方向に前記蒸発源又は前記基板を保持する保持手段の少なくとも一方を移動させる移動手段と、
前記蒸発源からの前記蒸着材料の放出レートを検出する検出手段と
を備え、前記蒸発源は、蒸発材用を収納する蒸発材収納部と、該収納部に収納された蒸発材料を加熱する加熱部と、該加熱部と前記保持手段との間に位置して前記加熱部から発生して前記基板に向かう輻射熱を遮断する内部に冷却水の通路を備えた冷却部とを有することを特徴とする真空蒸着装置。
IPC (3件)：
H05B 33/10
, C23C 14/24
, H01L 51/50
H05B33/10
, C23C14/24 B
, C23C14/24 C
, H05B33/14 A
3K107AA01
, 3K107BB01
, 3K107BB02
, 3K107CC42
, 3K107CC45
, 3K107GG04
, 3K107GG32
, 3K107GG33
, 3K107GG34
, 4K029AA09
, 4K029AA24
, 4K029BA62
, 4K029BB03
, 4K029CA01
, 4K029DA03
, 4K029DB06
, 4K029DB10
, 4K029DB12
, 4K029DB18
, 4K029DB23
, 4K029DB24
, 4K029KA01
, 4K029KA09
