特許

J-GLOBAL ID：201303078764790119

欠陥修正装置、及び、欠陥修正方法

発明者： 長島 章浩 ,  山崎 隆一 ,  赤羽 隆之
出願人/特許権者： オリンパス株式会社
代理人 (1件)： 大菅 義之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-009475
公開番号（公開出願番号）：特開2013-146760
出願日： 2012年01月19日
公開日（公表日）： 2013年08月01日
要約：

【課題】欠陥修正装置及び欠陥修正方法において、基板上に形成された回路パターンをレーザ光による破損から防ぐ。【解決手段】基板上の回路パターン領域52,53,54を、対物レンズを介して撮像する撮像部と、この撮像部により撮像された欠陥画像と比較パターンを比較した基板上の欠陥を検出する欠陥検出部と、上記比較パターンから得た基準遮光パターンの任意の領域に対して膨張係数を設定して膨張処理を施すことにより上記基板上の回路パターンに照射される上記レーザ光を遮光するレーザ光ショット用遮光パターン作成するレーザ光非照射領域設定部と、このレーザ光非照射領域設定部で作成されたレーザ光ショット用遮光パターンに基づいて上記基板に照射される上記レーザ光を整形する照射領域調整部と、この照射領域調整部により整形された上記レーザ光を、対物レンズを介して上記基板に照射して欠陥を修正する修正部と、を備える構成とする。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

基板上の欠陥にレーザ光を照射して修正する欠陥修正装置において、 前記基板上の回路パターン領域を、対物レンズを介して撮像する撮像部と、 該撮像部により撮像された欠陥画像と比較パターンを比較した基板上の欠陥を検出する欠陥検出部と、 前記比較パターンから得た基準遮光パターンの任意の領域に対して膨張係数を設定して膨張処理を施して前記基板上の回路パターンに照射される前記レーザ光を遮光するレーザ光ショット用遮光パターン作成するレーザ光非照射領域設定部と、 前記レーザ光ショット用遮光パターンに基づいて前記基板に照射される前記レーザ光を整形する照射領域調整部と、 該照射領域調整部により整形された前記レーザ光を、対物レンズを介して前記基板に照射して欠陥を修正する修正部と、 を備えることを特徴とする欠陥修正装置。

IPC (5件)：

B23K 26/00 ,  B23K 26/06 ,  B23K 26/03 ,  G02F 1/136 ,  G02F 1/13

FI (6件)：

B23K26/00 M ,  B23K26/06 Z ,  B23K26/00 C ,  B23K26/03 ,  G02F1/1368 ,  G02F1/13 101

Fターム (11件)：

2H088FA15 ,  2H088MA20 ,  2H092MA48 ,  2H092NA29 ,  4E068AC01 ,  4E068CB02 ,  4E068CC02 ,  4E068CD08 ,  4E068CE04 ,  4E068DA09 ,  4E068DB13