特許
J-GLOBAL ID:201303079421822682
画像処理用マスク生成方法、画像処理用マスク生成プログラム、画像処理装置及び画像処理プログラム
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
清水 昇
, 在原 元司
, 竹居 信利
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-057354
公開番号(公開出願番号):特開2013-192072
出願日: 2012年03月14日
公開日(公表日): 2013年09月26日
要約:
【課題】画像処理用マスクの生成にあたって、クラスタの形状を指定することなく、高品位な画像処理用マスクを生成可能な画像処理用マスク生成方法を提供する。【解決手段】画像処理用マスク生成方法は、画像処理用マスク内の各点におけるクラスタエネルギーを算出する算出ステップと、前記算出ステップによって算出されたクラスタエネルギーの値に基づいて、昇順又は降順に順位付けを行う順位付ステップと、前記順位付ステップによる処理結果である順位に基づいて、画像処理用マスク内の閾値を割り当てる閾値割当ステップを行い、前記算出ステップによるクラスタエネルギーの算出は、注目点xと、該注目点xを含まないクラスタに属する点yとの間の距離‖x-y‖を変数とする相互影響値fr(‖x-y‖)の総和により定義される。【選択図】図1
請求項(抜粋):
画像処理用マスク内の各点におけるクラスタエネルギーを算出する算出ステップと、
前記算出ステップによって算出されたクラスタエネルギーの値に基づいて、昇順又は降順に順位付けを行う順位付ステップと、
前記順位付ステップによる処理結果である順位に基づいて、画像処理用マスク内の閾値を割り当てる閾値割当ステップ
を行い、
前記算出ステップによるクラスタエネルギーの算出は、注目点xと、該注目点xを含まないクラスタに属する点yとの間の距離‖x-y‖を変数とする相互影響値fr(‖x-y‖)の総和により定義される
ことを特徴とする画像処理用マスク生成方法。
IPC (4件):
H04N 1/405
, G06T 1/00
, H04N 1/40
, B41J 2/52
FI (4件):
H04N1/40 C
, G06T1/00 500A
, H04N1/40 103B
, B41J3/00 A
Fターム (23件):
2C262AB13
, 2C262BB03
, 2C262BB22
, 5B057CA08
, 5B057CA12
, 5B057CA16
, 5B057CB08
, 5B057CB12
, 5B057CB16
, 5B057CB19
, 5B057CF04
, 5B057DA08
, 5B057DC14
, 5B057DC22
, 5C077LL17
, 5C077LL19
, 5C077MP08
, 5C077NN06
, 5C077NN07
, 5C077PP32
, 5C077PP33
, 5C077RR05
, 5C077RR14
引用特許:
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