特許

J-GLOBAL ID：201303079680892265

粒子配列体又は構造体並びにその製造方法

発明者： 西村 聡 ,  井上 貴仁 ,  宮前 孝行
出願人/特許権者： 独立行政法人産業技術総合研究所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-165793
公開番号（公開出願番号）：特開2013-027825
出願日： 2011年07月28日
公開日（公表日）： 2013年02月07日
要約：

【課題】 溶液中で、電場又は重力場により形成された粒子配列体又は構造体において、電場又は重力場が消失した後も長時間に亘って、その構造を安定に維持しうる粒子配列体又は構造体及びその製造方法を提供する。【解決手段】 溶液中で、電場や重力などの外場によって形成させた粒子配列体又は構造体に、無機及び有機イオン種またはその混合物を添加し、粒子間及び粒子-容器底面間の距離に対する相互作用ポテンシャルエネルギーの障壁の高さを制御することによって、粒子配列体又は構造体をその場に固定することができ、電場などの外場を解除しても、溶液中で長期間にわたって安定にその形態を維持することができる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

溶液中で、電場又は重力場により形成された粒子間距離が、電場又は重力場が消失した後も保持されている粒子配列を備えることを特徴とする粒子配列体又は構造体。

IPC (1件)：

B01J 19/08

FI (1件)：

B01J19/08 J

Fターム (5件)：

4G075AA27 ,  4G075BC10 ,  4G075CA11 ,  4G075CA14 ,  4G075CA51