特許

J-GLOBAL ID：201303080288721485

薬液混合装置

発明者： 小山 泰幸 ,  安達 孝昌 ,  高橋 章 ,  庄盛 博文
出願人/特許権者： 株式会社ジェイ・イー・ティ
代理人 (3件)： 吉田 正義 ,  今枝 弘充 ,  梅村 裕明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-287497
公開番号（公開出願番号）：特開2013-138062
出願日： 2011年12月28日
公開日（公表日）： 2013年07月11日
要約：

【課題】混合薬液を経時劣化させることなく、基板処理装置に供給できるとともに、混合薬液を生成する際に硫酸と過酸化水素水との混合比率の変動を抑制し、一定の混合比率に維持した混合薬液を生成し得る薬液混合装置を提案する。【解決手段】薬液混合装置10では、硫酸を圧送手段35により圧送することで硫酸流量を安定化させるとともに、硫酸よりも少ない供給量の過酸化水素水を定量ポンプ38により一定微少量にして射出することで過酸化水素水流量を安定化させ、合流部105にて硫酸及び過酸化水素水から混合薬液を生成し、生成直後の混合薬液をそのまま基板処理装置1に供給するようにしたことにより、混合薬液を経時劣化させることなく、基板処理装置1に供給できるとともに、混合薬液を生成する際に硫酸と過酸化水素水との混合比率の変動を抑制し、一定の混合比率に維持した混合薬液を生成し得る。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

硫酸と過酸化水素水とを混合して混合薬液を生成し、前記混合薬液を用いて基板のレジスト除去を行う基板処理装置に、前記混合薬液を供給する薬液混合装置であって、 前記硫酸を不活性ガスで加圧し、該硫酸を合流部に圧送する圧送手段と、 前記硫酸よりも少ない前記過酸化水素水を一定微少量にして前記合流部へ射出する定量ポンプと、 前記過酸化水素水及び前記硫酸が前記合流部にて混合されて生成された前記混合薬液を、前記基板処理装置に供給する混合薬液供給手段と を備えることを特徴とする薬液混合装置。

IPC (7件)：

H01L 21/304 ,  B01F 15/02 ,  B01F 15/04 ,  C11D 7/18 ,  C11D 7/08 ,  H01L 21/027 ,  G03F 7/42

FI (10件)：

H01L21/304 648K ,  B01F15/02 A ,  B01F15/04 A ,  C11D7/18 ,  C11D7/08 ,  H01L21/304 647Z ,  H01L21/304 643A ,  H01L21/304 648F ,  H01L21/30 572B ,  G03F7/42

Fターム (39件)：

2H096AA25 ,  2H096LA02 ,  4G037AA02 ,  4G037AA18 ,  4G037BA01 ,  4G037BB01 ,  4G037EA01 ,  4H003DA15 ,  4H003DB03 ,  4H003EA03 ,  4H003EE04 ,  5F146MA06 ,  5F146MA10 ,  5F157AA42 ,  5F157AA64 ,  5F157AA91 ,  5F157AB02 ,  5F157AB14 ,  5F157AB33 ,  5F157AB90 ,  5F157AC01 ,  5F157BB22 ,  5F157BB38 ,  5F157BC53 ,  5F157BE23 ,  5F157BE43 ,  5F157BG72 ,  5F157CA12 ,  5F157CE32 ,  5F157CE37 ,  5F157CF04 ,  5F157CF42 ,  5F157CF60 ,  5F157CF72 ,  5F157DB02 ,  5F157DB03 ,  5F157DB12 ,  5F157DB18 ,  5F157DB47