特許
J-GLOBAL ID：201303080465369851
容器内面成膜用CVD装置及び容器内面成膜方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
柳瀬 睦肇
, 渡部 温
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-194385
公開番号（公開出願番号）：特開2003-013231
特許番号：特許第4804654号
出願日： 2001年06月27日
公開日（公表日）： 2003年01月15日
請求項（抜粋）：
【請求項1】第1容器の内面と第2容器の内面に交互に薄膜を成膜する容器内面成膜用CVD装置であって、
第1容器を保持する保持部Aと第2容器を保持する保持部Bを有する台部材と、
保持部Aに保持された第1容器と保持部Bに保持された第2容器を交互に収容するために、台部材における保持部Aと保持部Bが交互に装着される成膜チャンバと、
台部材が成膜チャンバに装着された状態と台部材が成膜チャンバから取り外された状態との間で台部材を移動させる第1駆動機構と、
上記台部材が成膜チャンバから取り外された状態で台部材をスライド又は回転させる第2駆動機構と、
第1容器及び第2容器のうち一方の容器に薄膜を成膜している間に、他方の成膜終了後の容器と未成膜の容器を交換して台部材に保持する機構と、
を具備することを特徴とする容器内面成膜用CVD装置。
IPC (2件)：
C23C 16/44 ( 200 6.01)
, C23C 16/26 ( 200 6.01)
C23C 16/44 F
, C23C 16/26
