特許
J-GLOBAL ID：201303080493331460
網膜色素上皮細胞の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (2件)：
中山 亨
, 坂元 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-043080
公開番号（公開出願番号）：特開2013-128474
出願日： 2012年02月29日
公開日（公表日）： 2013年07月04日
要約：
【課題】高効率な網膜色素上皮細胞の製造方法を提供する。【解決手段】下記(1)〜(4)の工程を含むことを特徴とする網膜色素上皮細胞の製造方法。(1)多能性幹細胞を、Wntシグナル経路阻害物質を含む無血清培地中で浮遊培養することにより多能性幹細胞の凝集体を形成させる第一工程(2)第一工程で形成された凝集体を、基底膜標品を含む無血清培地中で浮遊培養する第二工程(3)第二工程で培養された凝集体を、血清培地中で浮遊培養する第三工程、及び(4)第三工程で培養された凝集体を、Wntシグナル経路作用物質を含む無血清培地又は血清培地(但し、前記無血清培地及び血清培地は、ソニック・ヘッジホッグシグナル経路作用物を含まない)中で浮遊培養する第四工程【選択図】なし
請求項（抜粋）：
下記(1)〜(4)の工程を含むことを特徴とする網膜色素上皮細胞の製造方法。
(1)多能性幹細胞を、Wntシグナル経路阻害物質を含む無血清培地中で浮遊培養することにより多能性幹細胞の凝集体を形成させる第一工程
(2)第一工程で形成された凝集体を、基底膜標品を含む無血清培地中で浮遊培養する第二工程
(3)第二工程で培養された凝集体を、血清培地中で浮遊培養する第三工程、及び
(4)第三工程で培養された凝集体を、Wntシグナル経路作用物質を含む無血清培地又は血清培地(但し、前記無血清培地及び血清培地とは、ソニック・ヘッジホッグシグナル経路作用物を含まない)中で浮遊培養する第四工程
IPC (5件)：
C12N 5/071
, C12Q 1/02
, A61L 27/00
, A61K 35/44
, A61P 27/02
C12N5/00 202A
, C12Q1/02
, A61L27/00 D
, A61K35/44
, A61P27/02
4B063QA07
, 4B063QQ08
, 4B063QR77
, 4B065AA93X
, 4B065BB19
, 4B065BB32
, 4C081AB21
, 4C081CD34
, 4C087AA01
, 4C087AA03
, 4C087BB56
, 4C087NA14
, 4C087ZA33
