特許
J-GLOBAL ID：201303080982429678

欠陥観察方法及びその装置

発明者：
大谷 祐子

大谷 祐子 について

, 
本田 敏文

本田 敏文 について

, 
松本 俊一

松本 俊一 について


出願人/特許権者：
株式会社日立ハイテクノロジーズ

株式会社日立ハイテクノロジーズ について


代理人 (1件)： ポレール特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-022941
公開番号（公開出願番号）：特開2013-160636
出願日： 2012年02月06日
公開日（公表日）： 2013年08月19日
要約：
【課題】背景ノイズに埋もれてしまうような微小な欠陥信号を背景ノイズから分離して検出できるようにして、試料上のより微細な欠陥の観察を可能にする。【解決手段】他の検査装置で検出した試料上の欠陥を光学顕微鏡を備えた検出装置で検出し、この検出した欠陥の位置情報に基づいて他の検査装置で検出した試料上の欠陥の位置情報を修正しSEMで観察する方法において、試料上の欠陥を検出装置で検出することを、試料に対して同じ入射面上で互いに対向する方向から同じ波長の二つの照明光を同じ入射角度で入射させて二つの照明光を干渉さて試料上に定在波を形成し、この定在波で照明された試料からの散乱光のうち試料表面の微小な凹凸により発生した散乱光成分を空間フィルタで除去し、空間フィルタで除去されなかった散乱光による像を検出し、この検出した散乱光による像を処理して他の検査装置で検出した試料上の欠陥を検出するようにした。【選択図】図7
請求項（抜粋）：
他の検査装置で検出した試料上の欠陥を該欠陥の位置情報に基づいて光学顕微鏡を備えた検出装置で検出し、 該光学顕微鏡を備えた検出装置で検出した欠陥の位置情報に基づいて前記他の検査装置で検出した試料上の欠陥の位置情報を修正し、 前記他の検査装置で検出した欠陥を前記修正した位置情報に基づいて走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて観察する欠陥の観察方法であって、 前記他の検査装置で検出した試料上の欠陥を前記光学顕微鏡を備えた検出装置で検出することを、 前記試料に対して同じ入射面上で互いに対向する方向から同じ波長の二つの照明光を同じ入射角度で入射させて前記二つの照明光を干渉させることにより前記試料上に定在波を形成し、 該定在波が形成された前記試料からの散乱光のうち前記試料表面の微小な凹凸により発生した散乱光成分を空間フィルタで除去し、 前記空間フィルタで除去されなかった前記試料からの散乱光による像を検出し、 該検出した散乱光による像を処理して前記他の検査装置で検出した試料上の欠陥を検出することにより行う ことを特徴とする欠陥観察方法。
IPC (2件)：
G01N 21/956 ,  G01N 23/225
FI (2件)：
G01N21/956 A ,  G01N23/225
Fターム (30件)：
2G001AA03 ,  2G001BA05 ,  2G001BA07 ,  2G001CA03 ,  2G001GA01 ,  2G001GA06 ,  2G001KA03 ,  2G001LA11 ,  2G051AA51 ,  2G051AB01 ,  2G051AC02 ,  2G051BA01 ,  2G051BA10 ,  2G051BA11 ,  2G051BB01 ,  2G051BB05 ,  2G051BB07 ,  2G051BB09 ,  2G051BB11 ,  2G051BB17 ,  2G051CB01 ,  2G051CB05 ,  2G051CC07 ,  2G051CC09 ,  2G051DA07 ,  2G051EA12 ,  2G051EA14 ,  2G051EA16 ,  2G051ED04 ,  2G051ED12
引用特許：
審査官引用 (2件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM