特許

J-GLOBAL ID：201303081543789338

マイクロ波処理方法

発明者： 南光 正平 ,  藤立 隆史
出願人/特許権者： 株式会社ニッシン
代理人 (2件)： 杉谷 勉 ,  戸高 弘幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-237330
公開番号（公開出願番号）：特開2013-098626
出願日： 2011年10月28日
公開日（公表日）： 2013年05月20日
要約：

【課題】高圧容器内でもマイクロ波処理を行うことができるマイクロ波処理方法を提供することを目的とする。【解決手段】中心導体2Aおよびそれを外部から囲む外部導体2Bからなる同軸導波管2を用いて、同軸導波管2におけるマイクロ波の伝送の下流先端側に誘電体製の部材(石英加工物3)を高圧容器1内に取り付けた状態で、マイクロ波を伝送してマイクロ波処理を行う。同軸導波管2を用いることで導入口の径が従来の中空導波管の導入口の径よりも小さくなり、かつ、どのような周波数の電磁波でも遮断周波数の制限がかかることなく伝送できる。さらに、同軸導波管2におけるマイクロ波の伝送の下流先端側に誘電体製の部材(石英加工物3)を高圧容器1内に取り付ければ、高圧容器1の誘電体にかかる圧力が軽減される。その結果、高圧容器1内でもマイクロ波処理を行うことができる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

内部圧力が大気圧より高い高圧容器中へマイクロ波を伝送して前記高圧容器中の処理物に対してマイクロ波処理を行うマイクロ波処理方法であって、 中心導体およびそれを外部から囲む外部導体からなる同軸導波管を用いて、 前記同軸導波管におけるマイクロ波の伝送の下流先端側に誘電体製の部材を前記高圧容器内に取り付けた状態で、マイクロ波を伝送してマイクロ波処理を行うことを特徴とするマイクロ波処理方法。

IPC (3件)：

H01P 5/103 ,  H01P 5/02 ,  H01P 5/08

FI (4件)：

H01P5/103 B ,  H01P5/02 601E ,  H01P5/08 D ,  H01P5/08 J

引用特許：

審査官引用 (2件)

• ホーンアンテナ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-244556   出願人：株式会社東芝
• 電磁波伝送媒体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-176173   出願人：株式会社ヨコオ