光断層撮像装置および制御方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (9件)：岡部讓 , 臼井伸一 , 越智隆夫 , 高橋誠一郎 , 吉澤弘司 , 齋藤正巳 , 木村克彦 , ▲濱▼口岳久 , 田中尚文
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-014649
公開番号（公開出願番号）：特開2013-153797
出願日： 2012年01月26日
公開日（公表日）： 2013年08月15日
要約：

【課題】前眼部の光断層撮像装置において、検者が様々な撮像範囲を選択可能とする。【解決手段】測定光と参照光とより得られる干渉光を受光素子に受光させる干渉光学系と、受光素子の出力信号に基づいて断層画像を取得する画像取得手段と、測定光の光路長を変更する測定光光路長変更手段と、参照光の光路長を変更する参照光光路長変更手段と、を有する装置において、更に、測定光光路長変更手段による測定光の光路長の変更に連動させて参照光光路長変更手段に参照光の光路長の変更を実行させる制御手段を配する。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

測定光を照射した被検査物からの戻り光と、該測定光に対応する参照光とを合波した光に基づいて、前記被検査物の断層画像を取得する光断層撮像装置であって、前記測定光の光路長を変更する測定光光路長変更手段と、前記参照光の光路長を変更する参照光光路長変更手段と、前記測定光光路長変更手段による前記測定光の光路長の変更に連動して、前記参照光光路長変更手段に前記参照光の光路長の変更を実行させる制御手段と、を有することを特徴とした光断層撮像装置。

IPC (2件)：

A61B 3/10 , A61B 3/117

FI (2件)：

A61B3/10 R , A61B3/10 G

引用特許：

審査官引用 (6件)

眼科撮影装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2010-011355 出願人：株式会社ニデック
眼科撮影装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2010-011366 出願人：株式会社ニデック
角膜観察装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-188318 出願人：株式会社トプコン

全件表示

前のページに戻る