特許
J-GLOBAL ID：201303082244997230
透明酸化物膜及びその製造方法並びに酸化物スパッタリングターゲット
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉浦 秀幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-049504
公開番号（公開出願番号）：特開2013-185175
出願日： 2012年03月06日
公開日（公表日）： 2013年09月19日
要約：
【課題】 屈折率が低く良好なガスバリア性を有した酸化亜鉛系の透明酸化物膜及びその製造方法並びに酸化物スパッタリングターゲットを提供すること。【解決手段】 透明酸化物膜が、全金属成分量に対して、Ga及びInの内の1種又は2種の合計を0.5〜12at%、Siを15〜54at%、Mgを5〜36at%含有し、残部がZn及び不可避不純物からなる成分組成を有した酸化物である。また、この透明酸化物膜を製造するためのスパッタリングターゲットは、全金属成分量に対して、Ga及びInの内の1種又は2種の合計を0.3〜5at%、Siを11〜30at%、Mgを5〜20at%含有し、残部がZn及び不可避不純物からなる成分組成を有した酸化物焼結体からなる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
全金属成分量に対して、Ga及びInの内の1種又は2種の合計を0.5〜12at%、Siを15〜54at%、Mgを5〜36at%含有し、残部がZn及び不可避不純物からなる成分組成を有した酸化物膜であり、波長400〜750nmの可視光域での屈折率平均値が、1.9以下であり、前記可視光域での透過率平均値が90%以上であり、非晶質であることを特徴とする透明酸化物膜。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C14/08 K
, C04B35/00 P
4G030AA07
, 4G030AA32
, 4G030AA34
, 4G030AA36
, 4G030AA37
, 4G030BA15
, 4G030CA08
, 4K029BA50
, 4K029BC08
, 4K029CA06
, 4K029DC05
, 4K029DC09
, 4K029DC34
