蒸発源及び真空蒸着装置

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：ポレール特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-112948
公開番号（公開出願番号）：特開2013-237915
出願日： 2012年05月17日
公開日（公表日）： 2013年11月28日
要約：

【課題】本発明は、リニアソースのヒータと坩堝の相対位置が変化しても、坩堝内温度の変化の影響が小さく、蒸発レートの変化が小さい真空蒸着装置用のリニアソースを有する蒸発源を提供することである。【解決手段】本発明は、長手方向を有し、基板の対向面の前記長手方向に並んで設けられた複数のノズルと、内部に蒸着材料を格納する材料室とを備える坩堝と、前記坩堝を格納するケーシングと、前記坩堝と前記ケーシングとの間に設けられ、坩堝奥行き方向に所定幅で前記長手方向に延伸して設けられたヒータと、前記坩堝と前記ヒータとの間に設けられ、一端が前記坩堝の前記ノズル近傍と、前記坩堝奥行き方向に少なくとも前記ノズル近傍以外の1箇所とで前記坩堝と接触する部分を有する伝熱板と、を有する。【選択図】図5

請求項（抜粋）：

長手方向を有し、基板の対向面に前記長手方向に並んで設けられた複数のノズルと、内部に蒸着材料を格納する材料室とを備える坩堝と、前記坩堝を格納するケーシングと、前記坩堝と前記ケーシングとの間に設けられ、坩堝奥行き方向に所定幅で前記長手方向に延伸して設けられたヒータと、前記坩堝と前記ヒータとの間に設けられ、一端が前記坩堝の前記ノズル近傍と、前記坩堝奥行き方向に少なくとも前記ノズル近傍以外の1箇所と、で前記坩堝と接触する部分を有する伝熱板とを有することを特徴とする蒸発源。

IPC (3件)：

C23C 14/24 , H01L 51/50 , H05B 33/10

FI (3件)：

C23C14/24 A , H05B33/14 A , H05B33/10

Fターム (14件)：

3K107AA01 , 3K107BB01 , 3K107CC33 , 3K107CC42 , 3K107GG04 , 3K107GG32 , 3K107GG33 , 3K107GG34 , 4K029CA01 , 4K029DB12 , 4K029DB13 , 4K029DB17 , 4K029HA01 , 4K029KA09

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