特許

J-GLOBAL ID：201303083666695845

エチレン回収システム

発明者： コリング,フィリップ・エム ,  アウセル・ルナ,ラウル・ア
出願人/特許権者： セラニーズ・インターナショナル・コーポレーション
代理人 (6件)： 社本 一夫 ,  今井 庄亮 ,  増井 忠弐 ,  小林 泰 ,  富田 博行 ,  沖本 一暁
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-506973
特許番号：特許第4776128号
出願日： 2000年06月19日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 酢酸ビニルの製造のための、回収ループを含む気相プロセスにおいて、反応器ループからエチレンと窒素およびアルゴンの少なくとも1種とを含む第1の不活性ガスパージ流から、エチレンを回収する方法であって: 吸収器において、第1の不活性ガスパージ流を酢酸と接触させて、該酢酸中のエチレンを選択的に吸収する工程; 該吸収器の一部から、酢酸とエチレンを含む第2の液流れを放出する工程; 該吸収器の他の一部からの窒素およびアルゴンの少なくとも1種を含む第3の流れを、該回収ループから放出する工程、この場合該第3の流れは該第1不活性ガス流れより少ないエチレンを含む; スクラバー塔において、該第2の流れを、エチレンを含む第4の再循環ガス流れと接触させることによって、該第2の流れ中の該酢酸から該エチレンを分離する工程、この場合該第4の再循環ガス流れが気相プロセスの反応器ループから放出され、スクラバー塔を通って流れ、その後該気相プロセスの反応器ループへ再循環され、この場合該第4の再循環ガス流れがエチレンを含む流出流れであり、該反応器ループから放出され、および、この場合該第4の再循環ガス流れが該反応器ループからの流出流れから再循環されたエチレンを含む;および 該スクラバー塔からエチレンを回収する工程 を含む該エチレン回収方法。

IPC (2件)：

C07C 67/00 ( 200 6.01) ,  C07C 69/15 ( 200 6.01)

FI (2件)：

C07C 67/00 ,  C07C 69/15

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特公昭49-019257
  
• 特開昭56-079639