特許
J-GLOBAL ID:201303084385224106
硬質表面用処理剤組成物
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
古谷 聡
, 溝部 孝彦
, 義経 和昌
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-048735
公開番号(公開出願番号):特開2013-184989
出願日: 2012年03月06日
公開日(公表日): 2013年09月19日
要約:
【課題】硬質表面上の汚れ除去効果が高く、更には洗浄後に高い防汚性を付与する疎水性硬質表面用処理剤組成物を提供する。【解決手段】(a)分子中に、カチオン性基を有するモノマー単位を20〜100モル%、ノニオン性基を有するモノマー単位を0〜80モル%、及びアニオン性基を有するモノマー単位を0〜40モル%含有し、カチオン性基を有するモノマー単位に対するアニオン性基を有するモノマー単位のモル比が0.3以下であり、重量平均分子量1,000〜300,000であるカチオン性高分子化合物〔(a)成分〕0.05〜10質量%、並びに(b)特定のアニオン界面活性剤〔(b)成分〕0.5〜30質量%を含有し、(a)成分中のカチオン性基のモル数Aと(b)成分中のアニオン性基のモル数Bとの比率A/Bが0.04以上、2以下である、疎水性硬質表面用処理剤組成物。【選択図】なし
請求項(抜粋):
(a)分子中に、カチオン性基を有するモノマー単位を20〜100モル%、ノニオン性基を有するモノマー単位を0〜80モル%、及びアニオン性基を有するモノマー単位を0〜40モル%含有し、カチオン性基を有するモノマー単位に対するアニオン性基を有するモノマー単位のモル比が0.3以下であり、重量平均分子量1,000〜300,000であるカチオン性高分子化合物〔以下、(a)成分という〕0.05〜10質量%、並びに(b)下記(b1)成分及び(b2)成分から選択される1種以上のアニオン界面活性剤〔以下、(b)成分という〕0.5〜30質量%を含有し、
(a)成分中のカチオン性基のモル数Aと(b)成分中のアニオン性基のモル数Bとの比率A/Bが0.04以上、2以下である、
疎水性硬質表面用処理剤組成物。
(b1)成分;炭素数8〜18の鎖式炭化水素基と、カルボン酸基又はその塩を有するアニオン界面活性剤
(b2)成分;炭素数7〜18の鎖式炭化水素基と、スルホン酸基、硫酸基、リン酸基、及びそれらの塩から選択される1種以上を有するアニオン界面活性剤
IPC (8件):
C09K 3/00
, C11D 3/37
, C11D 1/14
, C11D 1/04
, C11D 1/34
, C11D 17/00
, B08B 3/08
, C23G 1/19
FI (8件):
C09K3/00 112Z
, C11D3/37
, C11D1/14
, C11D1/04
, C11D1/34
, C11D17/00
, B08B3/08 Z
, C23G1/19
Fターム (40件):
3B201AA31
, 3B201AB51
, 3B201BA08
, 3B201BB22
, 3B201BB94
, 3B201CC01
, 4H003AB03
, 4H003AB14
, 4H003AB27
, 4H003AB38
, 4H003AC05
, 4H003AC08
, 4H003AD04
, 4H003AE05
, 4H003BA12
, 4H003BA20
, 4H003DA05
, 4H003DA08
, 4H003DA09
, 4H003DA12
, 4H003DA17
, 4H003DC02
, 4H003EB08
, 4H003EB16
, 4H003EB30
, 4H003ED02
, 4H003ED29
, 4H003FA06
, 4H003FA28
, 4K053PA03
, 4K053QA04
, 4K053RA22
, 4K053RA31
, 4K053RA41
, 4K053RA46
, 4K053RA55
, 4K053RA64
, 4K053RA65
, 4K053RA66
, 4K053SA04
引用特許:
前のページに戻る