特許
J-GLOBAL ID:201303085853729721

低次酸化チタンおよびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (8件): 高島 一 ,  土井 京子 ,  鎌田 光宜 ,  田村 弥栄子 ,  山本 健二 ,  村田 美由紀 ,  小池 順造 ,  當麻 博文
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-068342
公開番号(公開出願番号):特開2013-199406
出願日: 2012年03月23日
公開日(公表日): 2013年10月03日
要約:
【課題】50m2/g以上の比表面積を有する低次酸化チタンを工業的規模で安定的に製造できる方法の提供。【解決手段】少なくとも一方がチタン含有電極である二つの電極間に水系媒体を流通させつつ、前記二つの電極から前記水系媒体にプラズマ放電する工程を含み、前記二つの電極の少なくとも一方が中空部を有し、前記水系媒体を前記中空部を通じて注入及び/又は吸引することを特徴とする、低次酸化チタンの製造方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
組成式TiOx(式中のxは、1.5 IPC (1件):
C01G 23/04
FI (1件):
C01G23/04 Z
Fターム (4件):
4G047CA02 ,  4G047CB05 ,  4G047CC03 ,  4G047CD03
引用特許:
出願人引用 (6件)
全件表示
審査官引用 (6件)
全件表示

前のページに戻る