特許

J-GLOBAL ID：201303086021684767

芳香族ジカルボン酸の製造のための2段階酸化方法

発明者： シェパード,ロナルド バフォード ,  サムナー,チャールズ エドワン ジュニア ,  テナント,ブレント アライン
出願人/特許権者： グルーポ ペトロテメックス,ソシエダ アノニマ デ カピタル バリアブレ
代理人 (6件)： 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  小林 良博 ,  出野 知 ,  蛯谷 厚志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-229856
公開番号（公開出願番号）：特開2013-010801
出願日： 2012年10月17日
公開日（公表日）： 2013年01月17日
要約：

【課題】ベンゼンジカルボン酸の純度を改良した製造方法を提供する。【解決手段】(1)150〜165°Cの温度に保持された第一加圧酸化反応器において、酸素含有ガス、コバルト源、マンガン源及び臭素源を含んでなる酸化触媒成分並びに酢酸溶媒の存在下にp-キシレンを酸化せしめて、酸化組成物を生成させ;(2)前記第一加圧酸化反応器からの酸化組成物を除去し、そして工程(1)の酸化組成物を第二酸化反応器へ供給し;そして(3)前記第二酸化反応器に酢酸を含む蒸気相溶媒を供給しながら、かつ、前記第二酸化反応器内の温度を第一酸化反応器内の温度より高くかつ185〜230°Cの範囲に保持しながら、前記第二酸化反応器において前記酸化組成物を更に液相酸化させることを含んでなる方法。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

(1)150〜165°Cの温度に保持された第一加圧酸化反応器において、酸素含有ガス、コバルト源、マンガン源及び臭素源を含んでなる酸化触媒成分並びに酢酸溶媒の存在下にp-キシレンを酸化せしめて、酸化組成物を生成させ; (2)前記第一加圧酸化反応器からの酸化組成物を除去し、そして工程(1)の酸化組成物を第二酸化反応器へ供給し;そして (3)前記第二酸化反応器に酢酸を含む蒸気相溶媒を供給しながら、かつ、前記第二酸化反応器内の温度を第一酸化反応器内の温度より高くかつ185〜230°Cの範囲に保持しながら、前記第二酸化反応器において前記酸化組成物を更に液相酸化させることを含んでなる方法。

IPC (2件)：

C07C 51/265 ,  C07C 63/26

FI (2件)：

C07C51/265 ,  C07C63/26 E

Fターム (14件)：

4H006AA02 ,  4H006AC46 ,  4H006BA16 ,  4H006BA20 ,  4H006BA60 ,  4H006BB17 ,  4H006BB31 ,  4H006BC10 ,  4H006BC11 ,  4H006BC14 ,  4H006BD60 ,  4H006BS30 ,  4H039CA65 ,  4H039CC30

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭57-159739
  
• 特公昭45-037967