特許
J-GLOBAL ID：201303087593841134
マイクロデバイス及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
吉田 正義
, 今枝 弘充
, 梅村 裕明
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-149686
公開番号（公開出願番号）：特開2008-197611
特許番号：特許第5030215号
出願日： 2007年06月05日
公開日（公表日）： 2008年08月28日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 表面に第1の電極を備えた基板と、
CVD(Chemical Vapor Deposition)法による薄膜形成処理の際に蒸発せずに残る液体からなり、表面張力又は支持部によって前記基板上から膨出した液体膨出部と、
前記CVD法によって前記液体膨出部の液表面に積層形成された保護膜と、
前記保護膜の表面に形成された第2の電極とを備え、
前記第1の電極と前記第2の電極との間に電圧を印加することにより発生する静電気力により前記保護膜の形状が変化する
ことを特徴とするマイクロデバイス。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
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