特許
J-GLOBAL ID:201303087800669010
プラズマ処理装置、及びプラズマ処理方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
酒井 宏明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-114934
公開番号(公開出願番号):特開2013-243218
出願日: 2012年05月18日
公開日(公表日): 2013年12月05日
要約:
【課題】誘電体の温度の均一性を保つ。【解決手段】プラズマ処理装置10は、処理空間Sを画成する処理容器12と、マイクロ波発生器16と、処理空間Sに対向する対向面20aを有する誘電体窓20とを備える。また、プラズマ処理装置10は、誘電体窓20の対向面20aの反対側の面20b上に設けられ、マイクロ波発生器16によって発生されるマイクロ波に基づいて、誘電体窓20を介してプラズマ励起用のマイクロ波を処理空間Sへ放射するアンテナ18を備える。また、アンテナ18は、誘電体窓20の対向面20aの反対側の面20b上に設けられ、複数のスロット30aが形成されたスロット板30を含み、スロット板30の内部には、ヒータ31が設けられる。スロット板30の内部に設けられたヒータ31による加熱処理により、誘電体窓20の温度の均一性が保たれる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
処理空間を画成する処理容器と、
マイクロ波発生器と、
前記処理空間に対向する対向面を有する誘電体と、
前記誘電体の前記対向面の反対側の面上に設けられ、前記マイクロ波発生器によって発生されるマイクロ波に基づいて、前記誘電体を介してプラズマ励起用のマイクロ波を前記処理空間へ放射する、複数のスロットが形成されたスロット板と、
前記スロット板の内部に設けられた発熱部材と、
を備えることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (3件):
H01L 21/306
, H01L 21/31
, C23C 16/511
FI (3件):
H01L21/302 101D
, H01L21/31 C
, C23C16/511
Fターム (14件):
4K030CA04
, 4K030CA12
, 4K030FA01
, 4K030KA20
, 4K030LA15
, 5F004AA01
, 5F004BB14
, 5F004BB18
, 5F004BB32
, 5F045AA09
, 5F045BB02
, 5F045DP03
, 5F045EH03
, 5F045EK08
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