特許
J-GLOBAL ID：201303088475872714

レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明者：
市川 幸司

市川 幸司 について

, 
嶋田 雅彦

嶋田 雅彦 について

, 
西村 崇

西村 崇 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (1件)： 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-156438
公開番号（公開出願番号）：特開2013-041271
出願日： 2012年07月12日
公開日（公表日）： 2013年02月28日
要約：
【課題】パターン倒れ及び欠陥が少ないレジストパターンを得ることができるレジスト組成物の提供。【解決手段】式(I)で表される構造単位を有する樹脂、式(II)で表される構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び酸発生剤を含有するレジスト組成物。アルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
式(I)で表される構造単位を有する樹脂、 式(II)で表される構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂(但し、式(I)で表される構造単位を含まない)、及び 酸発生剤を含有するレジスト組成物。
IPC (6件)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  C08F 20/28 ,  C08F 20/38 ,  C08F 20/60 ,  H01L 21/027
FI (6件)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  C08F20/28 ,  C08F20/38 ,  C08F20/60 ,  H01L21/30 502R
Fターム (49件)：
2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF38P ,  2H125AF45P ,  2H125AF70P ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH22 ,  2H125AH23 ,  2H125AH24 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ69X ,  2H125AM22P ,  2H125AM99P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN65P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA15P ,  4J100BA15Q ,  4J100BA38P ,  4J100BB12P ,  4J100BB12Q ,  4J100BB18P ,  4J100BC02P ,  4J100BC03P ,  4J100BC04P ,  4J100BC08P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC53Q ,  4J100BC84P ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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