特許
J-GLOBAL ID:201303088596106695
反射防止組成物とその製造方法および使用
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (5件):
小野 新次郎
, 小林 泰
, 富田 博行
, 星野 修
, 森下 梓
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-259353
公開番号(公開出願番号):特開2013-246433
出願日: 2012年11月28日
公開日(公表日): 2013年12月09日
要約:
【課題】反射防止組成物とその製造方法が提供される。【解決手段】反射防止組成物であって、表面にヒドロキシル基を有する中空粒子(ここで、その中空粒子は約10nm〜約200nmの平均粒子径と約10%〜約90%の中空部分についての気孔率を有し、そしてヒドロキシル基の密度は約2%よりも大きい)、およびヒドロキシル基と化学的な結合を形成することのできる基を有する結合剤を含む反射防止組成物。【選択図】なし
請求項(抜粋):
反射防止組成物であって:
表面に一つ以上のヒドロキシル基を有する中空粒子、ここで、その中空粒子は10nm〜200nmの平均直径と10%〜90%の中空部分についての気孔率を有し、そして2%よりも大きなヒドロキシル基の密度を有する;および
ヒドロキシル基と独立して化学的な結合を形成することのできる一つ以上の基を有する結合剤;
を含む前記反射防止組成物。
IPC (3件):
G02B 1/11
, B05D 7/24
, B32B 27/18
FI (3件):
G02B1/10 A
, B05D7/24 303L
, B32B27/18 Z
Fターム (41件):
2K009AA02
, 2K009BB02
, 2K009CC03
, 2K009CC09
, 2K009CC42
, 2K009DD02
, 2K009DD06
, 4D075BB16X
, 4D075CA02
, 4D075CA13
, 4D075CB03
, 4D075CB06
, 4D075DA04
, 4D075DA06
, 4D075DB13
, 4D075DB31
, 4D075DC21
, 4D075DC24
, 4D075EA05
, 4D075EA07
, 4D075EA10
, 4D075EA12
, 4D075EA23
, 4D075EB16
, 4D075EC03
, 4D075EC24
, 4D075EC53
, 4F100AA20B
, 4F100AH06B
, 4F100AK52B
, 4F100AT00A
, 4F100BA02
, 4F100DD21B
, 4F100DE04B
, 4F100EH46
, 4F100GB41
, 4F100JN01A
, 4F100JN06B
, 4F100JN08
, 4F100JN18
, 4F100YY00B
引用特許:
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