特許

J-GLOBAL ID：201303088650117207

塗布膜の製造方法及び塗布液の塗布方法

発明者： 赤木 清 ,  押谷 宏史
出願人/特許権者： コニカミノルタ株式会社
代理人 (3件)： 磯野 道造 ,  奈良 泰男 ,  伊藤 直樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-085460
公開番号（公開出願番号）：特開2013-212483
出願日： 2012年04月04日
公開日（公表日）： 2013年10月17日
要約：

【課題】より均一な厚さの薄膜を形成可能な塗布膜の製造方法及び塗布液の塗布方法を提供する。【解決手段】被塗布物の表面に形成される塗布膜の製造方法であって、固形分を含む第1塗布液を前記被塗布物の表面に塗布する第1塗布工程と、固形分を含む第2塗布液を、前記第1塗布液が塗布される領域の周囲を囲んで塗布する第2塗布工程と、を含み、前記第2塗布液の固形分濃度は、前記第1塗布液の固形分濃度よりも低いことを特徴とする、塗布膜の製造方法。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

被塗布物の表面に形成される塗布膜の製造方法であって、 固形分を含む第1塗布液を前記被塗布物の表面に塗布する第1塗布工程と、 固形分を含む第2塗布液を、前記第1塗布液が塗布される領域の周囲を囲んで塗布する第2塗布工程と、を含み、 前記第2塗布液の固形分濃度は、前記第1塗布液の固形分濃度よりも低い ことを特徴とする、塗布膜の製造方法。

IPC (3件)：

B05D 1/26 ,  H05B 33/10 ,  H01L 51/50

FI (3件)：

B05D1/26 Z ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A

Fターム (20件)：

3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC33 ,  3K107CC45 ,  3K107DD47X ,  3K107DD47Y ,  3K107DD47Z ,  3K107DD70 ,  3K107DD87 ,  3K107FF14 ,  3K107GG08 ,  3K107GG28 ,  4D075AC07 ,  4D075AC73 ,  4D075AC84 ,  4D075AC88 ,  4D075AE22 ,  4D075DA06 ,  4D075DC21 ,  4D075DC24

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 機能性素子の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-205455   出願人：大日本印刷株式会社
• 膜パターンの形成方法、膜パターン形成装置、導電膜配線、電気光学装置、電子機器、非接触型カード媒体、圧電体素子、並びにインクジェット式記録ヘッド
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-118287   出願人：セイコーエプソン株式会社