特許

J-GLOBAL ID：201303088773447783

排水処理システム

発明者： 松田 学 ,  鳥居 久倫 ,  寺島 裕二 ,  竹村 理
出願人/特許権者： 住友精密工業株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人前田特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-056280
公開番号（公開出願番号）：特開2013-188678
出願日： 2012年03月13日
公開日（公表日）： 2013年09月26日
要約：

【課題】発泡し易い排水でも減圧下で安定して蒸留できる排水処理システムを提供する。【解決手段】減圧下で蒸留することによって排水を浄化する排水処理システム1である。蒸留釜10、排水槽20、消泡剤を貯留する薬液槽30、復水装置50、回収槽60、減圧ポンプ70、制御装置80を備える。制御装置80は、減圧蒸留前に排水の一部を供給し、減圧蒸留中に残りの排水を複数回に分けて追加供給する給液制御部84、排水の追加供給時に蒸留釜10内に消泡剤を注入する薬液注入制御部83を有している。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

減圧下で蒸留することによって排水を浄化する排水処理システムであって、 蒸留釜と、 前記蒸留釜に供給する排水を貯留する排水槽と、 排水に添加する消泡剤を貯留する薬液槽と、 前記蒸留釜で気化した水蒸気を冷却する復水装置と、 前記復水装置で液化した蒸留水を回収する回収槽と、 前記蒸留釜の内部に通じる減圧ポンプと、 排水処理を制御する制御装置と、 を備え、 前記制御装置は、 減圧蒸留前の前記蒸留釜に前記排水槽の排水の一部を供給し、減圧蒸留中の前記蒸留釜に残りの排水を複数回に分けて追加供給する給液制御部と、 排水の追加供給時に、前記蒸留釜内に消泡剤を注入する薬液注入制御部と、 を有している排水処理システム。

IPC (3件)：

C02F 1/04 ,  B01D 1/00 ,  B01D 19/04

FI (4件)：

C02F1/04 Z ,  B01D1/00 A ,  B01D19/04 A ,  B01D19/04 B

Fターム (25件)：

4D011CA01 ,  4D011CB06 ,  4D034AA11 ,  4D034BA01 ,  4D034CA12 ,  4D034CA21 ,  4D076BA01 ,  4D076BC01 ,  4D076CD12 ,  4D076CD22 ,  4D076DA10 ,  4D076DA25 ,  4D076EA08X ,  4D076EA08Y ,  4D076EA11Y ,  4D076EA12X ,  4D076EA14Y ,  4D076EA15X ,  4D076EA15Y ,  4D076EA16Y ,  4D076FA02 ,  4D076FA03 ,  4D076FA11 ,  4D076GA04 ,  4D076JA03